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Study of interface passivation effect on band alignment at metal/semiconductor interface

Study of interface passivation effect on band alignment at metal/semiconductor interface
界面钝化对金属/半导体界面能带排列影响的研究
批准号:
22760244
负责人:
NISHIMURA Tomonori
金额:
$2.66万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2010
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2010 至 2011

项目摘要

项目成果

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英文摘要
The pinning level at metal/Ge interface is sensitive to the non metal element bonded to interface Ge and to the bond structure of Ge close to the interface. Whereas, the alleviation of Fermi level pinning depends on the inserting film, which is difficult to be explained only by simple models of interface level or by wave function penetration from metal.
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会议论文
A Study of Fermi-level Pinning in Ge Schottky and MIS Tunnel Junctions
Ge肖特基和MIS隧道结中费米能级钉扎的研究
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [T. Nishimura, K. Nagashio, K. Kita and A. Toriumi]
通讯作者: K. Kita and A. Toriumi
High-k/GeMOSFETにおける移動度特性の向上
改善高 k/Ge MOSFET 的迁移率特性
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [井村将隆, 早川竜馬, 大里啓孝, 渡辺英一郎, 津谷大樹, Meiyong Liao, 小出康夫, 天野浩, 西村知紀,李忠賢,王盛凱,田畑俊行,長汐晃輔,喜多浩之,鳥海明]
通讯作者: 西村知紀,李忠賢,王盛凱,田畑俊行,長汐晃輔,喜多浩之,鳥海明
金属/Ge界面に導入した酸化膜と硫化膜がFermi-level pinningに与える影響の比較
金属/Ge界面引入的氧化物和硫化物薄膜对费米能级钉扎影响的比较
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [西村知紀, 李忠賢, 長汐晃輔, 喜多浩之, 鳥海明]
通讯作者: 鳥海明
MIGS-metal layer formation model at metal/Ge Schottky barrier diode interface
MIGS-金属/Ge肖特基势垒二极管界面处的金属层形成模型
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [矢ヶ部恵弥, 石黒亮輔, 中村壮智, 大里啓孝, 渡辺英一郎, 津谷大樹, 高柳英明, 前野悦輝, T. Nishimura and A. Toriumi]
通讯作者: T. Nishimura and A. Toriumi
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