Development of high sensitivity non-radiation defect characterization systems for diamond semiconductor
金刚石半导体高灵敏度非辐射缺陷表征系统的开发
基本信息
- 批准号:22760300
- 负责人:
- 金额:$ 2.58万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
The purpose of this work is to develop a non-radiative defect characterization system for wide-gap semiconductor materials, especially diamond crystal. I have developed a temperature-variable(80~400K) photothermal spectroscopy using a high-sensitive signal detector with a piezoelectric device, and carried out the defect characterization of a high-pressure/ high-temperature synthesized diamond crystal and a self-standing homoepitaxial diamond film grown by a micro-wave plasma chemical vapor deposition method.
本工作的目的是发展一套宽禁带半导体材料,特别是金刚石晶体的非辐射缺陷表征系统。我已经开发了一个变温(80~ 400 K)光热光谱使用高灵敏度的信号检测器与压电装置,并进行了缺陷表征的高压/高温合成金刚石晶体和自立同质外延金刚石薄膜的微波等离子体化学气相沉积方法。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Growth of phsphorus-doped homoepitaxial CVD diamond on vicinal (001) substrates
在邻位 (001) 基底上生长掺磷同质外延 CVD 金刚石
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y.Ashizawa;S.Shinohara;T.Nawata;K.Nakagawa;H.Nishio
- 通讯作者:H.Nishio
Improvement on p-type performance of CVD diamond by isolating thin heavily-boron-doped layer as innumerable islands
通过将薄重硼掺杂层隔离为无数岛来改善 CVD 金刚石的 p 型性能
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:O. Maida;M. Aono;T. Ito
- 通讯作者:T. Ito
Fabrication of self-standing device-quality single-crystalline diamond films on vicinal (001) surfaces and its application to the high-energy photon detectors
邻位(001)表面自支撑器件质量单晶金刚石薄膜的制备及其在高能光子探测器中的应用
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:O. Maida;S. Iguchi;T. Igarashi;H. Sato;T. Ito
- 通讯作者:T. Ito
Hall data analysis of heavily-boron-doped CVD diamond films based on a two-type carrier model and their application to improvement on p-type performance of CVD diamond
基于两型载流子模型的重硼掺杂CVD金刚石薄膜霍尔数据分析及其在改善CVD金刚石p型性能中的应用
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ikuta;Y.;M.Aono
- 通讯作者:M.Aono
Survey meter combining CVD diamond and silicon detectors for wide range of dose rates and high accumulated doses
- DOI:10.1016/j.radmeas.2012.02.011
- 发表时间:2012-04
- 期刊:
- 影响因子:2
- 作者:Hidenori Sato;Akihito Yamaguchi;O. Maida;T. Ito
- 通讯作者:Hidenori Sato;Akihito Yamaguchi;O. Maida;T. Ito
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
MAIDA Osamu其他文献
Compressed Sensing EEG Measurement Technique with Normally Distributed Sampling Series
正态分布采样序列压缩感知脑电测量技术
- DOI:
10.1587/transfun.2021eal2099 - 发表时间:
2022 - 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
OKABE Yuki;KANEMOTO Daisuke;MAIDA Osamu;HIROSE Tetsuya - 通讯作者:
HIROSE Tetsuya
MAIDA Osamu的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
相似海外基金
ワイドギャップ系パワー半導体のスイッチング機能を用いた直流遮断法の開発
利用宽禁带功率半导体的开关功能开发直流切断方法
- 批准号:
24K00867 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
オキシカルコゲナイドの欠陥学理の構築とワイドギャップ半導体の設計・開拓への展開
硫族元素缺陷理论的构建及其在宽禁带半导体设计开发中的发展
- 批准号:
24H00376 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
熱活性化ワイドギャップ半導体シングルナノ粒子による熱触媒機能の開拓
利用热活化宽禁带半导体单纳米粒子开发热催化功能
- 批准号:
23K23183 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
超ワイドギャップ半導体の両極性電気伝導発現に向けた物性の解明と制御
超宽带隙半导体双极导电物理特性的阐明和控制
- 批准号:
23K26560 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ボンドエンジニアリング記述子の開発とそのワイドギャップ半導体結晶成長への適用
键合工程描述符的开发及其在宽禁带半导体晶体生长中的应用
- 批准号:
24K08268 - 财政年份:2024
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
UVアシスト研磨における高濃度オゾン水供給の効果
供应高浓度臭氧水在紫外辅助抛光中的效果
- 批准号:
23K03618 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
In situ three-dimensional measurement of wide bandgap semiconductors with stimulated Raman scattering
利用受激拉曼散射对宽带隙半导体进行原位三维测量
- 批准号:
23H00271 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
超ワイドギャップ半導体の両極性電気伝導発現に向けた物性の解明と制御
超宽带隙半导体双极导电物理特性的阐明和控制
- 批准号:
23H01867 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ワイドギャップ半導体デバイスシミュレーションのための物性物理モデル構築
宽禁带半导体器件模拟的凝聚态物理模型的构建
- 批准号:
23K03944 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Departure from conductivity control with impurity doping in widegap semiconductors
宽禁带半导体中杂质掺杂偏离电导率控制
- 批准号:
23H05460 - 财政年份:2023
- 资助金额:
$ 2.58万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (S)