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UVアシスト研磨における高濃度オゾン水供給の効果

UVアシスト研磨における高濃度オゾン水供給の効果
供应高浓度臭氧水在紫外辅助抛光中的效果
批准号：
23K03618
负责人：
山口 桂司
金额：
$3.0万
依托单位：
Kyoto Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2023
资助国家：
日本
项目状态：
未结题
起止时间：
2023-04-01 至 2026-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23K03618/
关键词：
シリコンカーバイド研磨鏡面加工オゾン水ワイドギャップ半導体

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