Interconnect formation for high-band-width packaging
Interconnect formation for high-band-width packaging
批准号:
23656213
负责人:
KONDOH Eiichi
金额:
$1.25万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2012
中文摘要
生物脉络,如变形虫生物,形成了一个有效的网络。通过给生物血管提供导电性,可以制作高速电子电路。在这项工作中,利用超临界流体中的金属沉积技术对生物静脉表面进行金属化,其中金属络合物通过溶解在富勒体中的氢来还原。在未经特殊处理的情况下,在非导电生物脉上成功地沉积了少量微米厚的铜或铂。至约200℃时,组织未见明显变性。
英文摘要
Bio veins such as amoeboid organism form an efficient network. A high speedelectronic circuit can be fabricated via giving electric conductivity to the bio veins. Inthis work, bio vein surfaces were were metallized using a metal deposition techniquefrom supercritical fluids, where a metal chelate was reduced by hydrogen dissolved inthe fulid. A few of micron-thick Cu or Pt was successfully deposited on non-conductivebio veins without special pretreatment. The tissues did not show a significantdegeneration upto about 200℃.
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導電性物質の形成装置及びその形成方法
导电材料形成装置及其形成方法
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
超臨界流体を利用した金属薄膜堆積技術
使用超临界流体的金属薄膜沉积技术
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hirotake Kajii, Yusuke Kusumoto, Daiki Terashima, and Yutaka Ohmori, T. Nakamura, 近藤英一]
通讯作者:
近藤英一
超臨界流体を用いた金属薄膜堆積 -メリットと展望-
使用超临界流体沉积金属薄膜-优点和前景-
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Inagaki, N. Fukatani, T. Miyawaki, K. Ueda, and H. Asano, 近藤英一]
通讯作者:
近藤英一
超臨界流体を用いた金属薄膜堆積―メリットと展望―
使用超临界流体沉积金属薄膜 - 优点和前景 -
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[秋山知英, 中村敏浩, 酒井道, 三宝 勝利,作間 啓太,松島 宏行,宮脇 哲也,植田 研二,浅野 秀文, 近藤英一]
通讯作者:
近藤英一
超臨界流体を利用した生体組織のメタライズ
使用超临界流体对生物组织进行金属化
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
表面技術
影响因子:
--
作者:
[近藤英一, 望月裕文, 渡辺満洋]
通讯作者:
渡辺満洋
共 15 条
Process technologies for integrating nano-crystalline Si and wide-bandgap semiconductors aiming to fabricating novel optoelectronics devices
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批准号:16H04327
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.16万
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财政年份:2016
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负责人:KONDOH Eiichi
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依托单位:
Development of topography-sensitive nano device processing aided by in-situ ellipsometry in supercritical fluids
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批准号:18206031
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$15.39万
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财政年份:2006
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负责人:KONDOH Eiichi
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依托单位:
Development of Novel, High-Speed, and Environmentally-Friendly Thin Film Deposition Technology using Supercritical Carbon Dioxide Fluids
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批准号:15360162
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.31万
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财政年份:2003
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负责人:KONDOH Eiichi
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依托单位:
海外基金