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Process technologies for integrating nano-crystalline Si and wide-bandgap semiconductors aiming to fabricating novel optoelectronics devices

Process technologies for integrating nano-crystalline Si and wide-bandgap semiconductors aiming to fabricating novel optoelectronics devices
集成纳米晶硅和宽带隙半导体的工艺技术，旨在制造新型光电子器件
批准号：
16H04327
负责人：
KONDOH Eiichi
金额：
$5.16万
依托单位：
University of Yamanashi
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H04327/
关键词：
超臨界流体ポーラスシリコンエリプソメーター多孔質シリコン超臨界CO2流体porous siliconsupercritical fluidszinc oxide酸化亜鉛発光デバイス

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DENSITY EVALUATION OF SUB-100 nm PARTICLES BY USING ELLIPSOMETRY
使用椭圆光度法评估 100 nm 以下颗粒的密度
DOI： --
发表时间： 2017
期刊： Proceedings of International Conference of Planarization/CMP Technology
影响因子： --
作者： [L. Jin, T. Takaguchi, E. Kondoh and B. Gelloz, 安藤亮，小峰啓史, 波多野陽，昊亭，王道洪，高木伸之, 小峰啓史，青野友祐，村田正行，長谷川靖洋, Eiichi Kondoh Katsuya Suzuki Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama]
通讯作者： Eiichi Kondoh Katsuya Suzuki Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama
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DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
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通讯作者： 秋山 泰輝，飯塚 祐基，金 蓮花，近藤 英一，ジェローズ ベルナール
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发表时间： 2018
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通讯作者： 不破 弘樹，近藤 英一，金 蓮花
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发表时间： 2016
期刊： Japanese Journal of Applied Physics
影响因子： 1.5
作者： [R. Ando, T. Komine,, Eiichi Kondoh Tatsuya Kawakami Mitsuhiro Watanabe Lianhua Jin Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama]
通讯作者： Eiichi Kondoh Tatsuya Kawakami Mitsuhiro Watanabe Lianhua Jin Satomi Hamada Shohei Shima Hirokuni Hiyama
共 39 条
    Interconnect formation for high-band-width packaging
    • 批准号：
      23656213
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $1.25万
    • 财政年份：
      2011
    • 负责人：
      KONDOH Eiichi
    • 依托单位：
      University of Yamanashi
    Development of topography-sensitive nano device processing aided by in-situ ellipsometry in supercritical fluids
    • 批准号：
      18206031
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额：
      $15.39万
    • 财政年份：
      2006
    • 负责人：
      KONDOH Eiichi
    • 依托单位：
      University of Yamanashi
    Development of Novel, High-Speed, and Environmentally-Friendly Thin Film Deposition Technology using Supercritical Carbon Dioxide Fluids
    • 批准号：
      15360162
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $5.31万
    • 财政年份：
      2003
    • 负责人：
      KONDOH Eiichi
    • 依托单位：
      University of Yamanashi
    海外基金