Process control of magnetic materials for thin film actuator
Process control of magnetic materials for thin film actuator
批准号:
24560859
负责人:
MATSUMURA Yoshihito
金额:
$3.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2015-03-31
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DOI:
10.2320/matertrans.m2014162
发表时间:
2014
期刊:
MATERIALS TRANSACTIONS
影响因子:
1.2
作者:
[Mao Amano, Yumiko Ezaki, Kadek Fendy Sutrisna, Yoshihito Matsumura]
通讯作者:
Yoshihito Matsumura
イオンプレーティング法により作製したアクチュエータ薄膜に対する過剰エネルギーの影響
过剩能量对离子镀法制备致动器薄膜的影响
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
第26回「電磁力関連のダイナミクス」シンポジウム(SEAD26)講演論文集
影响因子:
--
作者:
[Mao Amano, Yumiko Ezaki, Kadek Fendy Sutrisna, Yoshihito Matsumura, 天野 真央,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人, ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,天野 真央,江崎 祐美子,松村 義人]
通讯作者:
ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,天野 真央,江崎 祐美子,松村 義人
薄膜アクチュエータを目的とした過飽和固溶Fe磁歪合金の作製
用于薄膜致动器的过饱和固溶体铁磁致伸缩合金的制备
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
電磁力関連のダイナミックスシンポジウム講演論文集
影响因子:
--
作者:
[天野真央, 松村義人, 江崎裕美子, SUTRISNA Kadek Fendy]
通讯作者:
SUTRISNA Kadek Fendy
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[M. Amano, Y. Ezaki, K.F. Sutrisna, Y. Shinohara, Y.Matsumura, 酒井 彰崇,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,天野 真央,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人, 田綿 元貴,橋本 真希,豊田 椋一,落合 成行,松村 義人, 豊田 椋一,天野 真央,望月 龍馬,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人, 天野 真央,豊田 椋一,松村 義人, 天野 真央,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,松村 義人, 天野 真央,松村 義人, Ryoichi Toyoda,Motoki Tawata,Maki Hashimoto,Yoshihito Matsumura]
通讯作者:
Ryoichi Toyoda,Motoki Tawata,Maki Hashimoto,Yoshihito Matsumura
Effects of Excess Energy on Thin Film Actuator Formation by Ion Plating Process
过量能量对离子镀工艺形成薄膜致动器的影响
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
Proc. 14th Int.Conf. on New Actuators (ACTUATOR2014)
影响因子:
--
作者:
[Mao Amano, Yumiko Ezaki, Kadek Fendy Sutrisna, Yoshihito Matsumura, 天野 真央,ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人, ニヨムワイタヤ チョンラウィット,酒井 彰崇,天野 真央,江崎 祐美子,松村 義人, 豊田 椋一,宮田 俊平,橋本 真希,坂野 将太,飯島 貴朗,利根川 昭,松村 義人, Mao Amano,Chonlawich NIYOMUWAITAYA,Akitaka SAKAI,Ryoichi TOYODA,Takaaki IIJIMA,Akira Tonegawa,Yoshihito Matsumura, Chonlawich NIYOMUWAITAYA,Akitaka SAKAI,Mao Amano,Yumiko EZAKI,Ryoichi TOYODA,Takaaki IIJIMA,Akira Tonegawa,Yoshihito Matsumura]
通讯作者:
Chonlawich NIYOMUWAITAYA,Akitaka SAKAI,Mao Amano,Yumiko EZAKI,Ryoichi TOYODA,Takaaki IIJIMA,Akira Tonegawa,Yoshihito Matsumura
共 39 条
Design of Magnetostrictive Susceptibility on Magnetostrictive Thin Film
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批准号:19560709
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2007
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负责人:MATSUMURA Yoshihito
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依托单位:
Ion irradiated modifications on magnetostrictive thin films
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批准号:16560616
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.24万
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财政年份:2004
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负责人:MATSUMURA Yoshihito
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依托单位:
国内基金
海外基金
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高性能抗氧化BOPP薄膜加工关键技术研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:王晓丽
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依托单位:
汽车后视镜用高耐腐蚀银合金薄膜材料开发
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:林改
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依托单位:
基于稀疏天线阵列的薄膜铌酸锂光学相控阵
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批准号:JCZRMS202600414
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:
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依托单位:
CsₓWO₃/CeO₂异质结的构建及其自修复透明隔热薄膜研究
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批准号:2026JJ50456
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:谭彦妮
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依托单位:
二维卤化物铁电钙钛矿电子态及电子输运性质研究与调控
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批准号:2026JJ50114
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:刘标
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依托单位:
(BiₓIn₁₋ₓ)₂Se₃ NW/MoS₂异质结构二阶非线性光学响应调控和机理研究
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批准号:2026JJ50115
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:陈智慧
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依托单位:
基于光交联的高稳定性图案化电致变色薄膜及其多色显示器件
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批准号:ZCLMS26E0302
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:李锦
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依托单位:
用于粉体农药包装PVA薄膜的研发
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:丁长明
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依托单位:
智能化柔性光电薄膜材料精准制备平台
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批准号:JCZRMS202601078
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:
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依托单位:
钙钛矿准单晶薄膜的原子级气相沉积及其太阳能电池研究
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批准号:JCZRQNA202600009
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:
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依托单位: