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What should we do for fabrication of silicon nano structures using soft lithography techniques ?

What should we do for fabrication of silicon nano structures using soft lithography techniques ?
使用软光刻技术制造硅纳米结构我们应该做什么？
批准号：
24560861
负责人：
HANAJIRI TATSURO
金额：
$3.33万
依托单位：
Toyo University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2012
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2012-04-01 至 2015-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24560861/
关键词：
SPMμ-TASSOQSOIGOrGOECMＭＰＣPCRＧＯシリコンナノ粒子MPCμ‐TAS

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DOI： 10.1007/s10825-013-0549-5
发表时间： 2013
期刊： Journal of Computational Electronics
影响因子： 2.1
作者： [T.Yamada, Y.Nakajima,T.Hanajiri,T.Toyabe and T.Sugano]
通讯作者： Y.Nakajima,T.Hanajiri,T.Toyabe and T.Sugano
Compatibility of graphene sheets with blodd components
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DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [Y.Yoshihara,H.Uchida,T.Shimizu,T.Mizuki,Y.Nakajima, T.Hanajiri]
通讯作者： T.Hanajiri
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通讯作者： Tatsuro Hanajiri
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DOI： 10.1109/ted.2012.2225063
发表时间： 2013
期刊： IEEE Transactions on Electron Devices
影响因子： 3.1
作者： [Tatsuya Yamada;Y. Nakajima;T. Hanajiri;Takuo Sugano]
通讯作者： Tatsuya Yamada;Y. Nakajima;T. Hanajiri;Takuo Sugano
共 27 条
    国内基金
    海外基金
    插层2H-TaS2单晶生长及磁性和输运性质的研究
    • 批准号：
      2025JJ60014
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2025
    • 负责人：
      倪顺利
    • 依托单位：
      南华大学
    原位透射电镜研究1T-TaS2中层厚依赖的 电荷密度波相变特性
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      10.0万元
    • 批准年份：
      2025
    • 负责人：
      王刚
    • 依托单位：
      南方科技大学
    葛根芩连汤经“TAS2R38-Ca2+-巨噬细胞极化” 抑制溃疡性结肠炎炎 性微环境的作用机制
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2024
    • 负责人：
      顾任钧
    • 依托单位：
    SUMO化Tas促进LTR启动子转录沉默进而抑制PFV复制的分子机制研究
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2024
    • 负责人：
    • 依托单位：
      湖北医药学院