Atomic-scale flattening of Ge surfaces free from metallic contamination by a flat catalyst to enhance oxygen reduction reactions in water
通过扁平催化剂对没有金属污染的Ge表面进行原子级扁平化,以增强水中的氧还原反应
基本信息
- 批准号:24686020
- 负责人:
- 金额:$ 16.81万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份:2012
- 资助国家:日本
- 起止时间:2012-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Origin of Anomalous Positive Charging of Water-adsorbed Thin GeO2 Films Studied by Ambient-pressure XPS
常压 XPS 研究吸水 GeO2 薄膜异常正电荷的起源
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Arima;D. Mori;Y. Saito;H. Oka;K. Kawai;T. Hosoi;M. Morita;H. Watanabe and Z. Liu
- 通讯作者:H. Watanabe and Z. Liu
Formation of Graphene with Reduced Pits on SiC(0001) Assisted by Plasma Oxidation and Wet Etching
等离子体氧化和湿法刻蚀辅助 SiC(0001) 上凹坑减少的石墨烯形成
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Daichi Mori;Naoki Saito;Akito Imafuku;Kentaro Kawai;Yasuhisa Sano;Mizuho Morita and Kenta Arima
- 通讯作者:Mizuho Morita and Kenta Arima
Catalytic Behavior of Metallic Particles in Anisotropic Etching of Ge(100) Surfaces in Water Mediated by Dissolved Oxygen
金属颗粒在溶解氧介导的水中 Ge(100) 表面各向异性刻蚀中的催化行为
- DOI:10.1063/1.4730768
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:3.2
- 作者:Junichi Uchikoshi;Yoshinori Hayashi;Noritaka Ajari;Kentaro Kawai;Kenta Arima and Mizuho Morita;Yasuhisa Sano et al.;Atsushi Mura et al.;Tatsuya Kawase et al.
- 通讯作者:Tatsuya Kawase et al.
Comparison of Wetting Properties between GeO2/Ge and SiO2/Si Revealed by in-situ XPS
原位 XPS 显示 GeO2/Ge 和 SiO2/Si 润湿性能比较
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Naoki Saito;Kenta Arima et al.;Kenta Arima
- 通讯作者:Kenta Arima
Analysis of Enhanced Oxygen Reduction Reaction on Ge(100) Surface in Water Toward Metal-free Machining Process
水中 Ge(100) 表面强化氧还原反应无金属加工分析
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Naoki Saito;Kenta Arima et al.;Kenta Arima;Kenta Arima;K. Arima;Kenta Arima;K. Arima;Kenta Arima;Naoki Saito;K. Arima;Atsushi Mura
- 通讯作者:Atsushi Mura
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