Development of CsLiB6O10 crystal with high photorefractive damage tolerance and its application to high-power UV light generation
Development of CsLiB6O10 crystal with high photorefractive damage tolerance and its application to high-power UV light generation
高光折变损伤容限CsLiB6O10晶体的研制及其在高功率紫外光产生中的应用
批准号：
26286064
负责人：
YOSHIMURA MASASHI
金额：
$10.32万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2017-03-31
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非線形光学結晶CsLiB6O10の高品質化と高出力深紫外ピコ秒レーザーパルス発生
高品质非线性光学晶体CsLiB6O10和高功率深紫外皮秒激光脉冲发生
高品质非线性光学晶体CsLiB6O10和高功率深紫外皮秒激光脉冲发生
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
レーザー研究
影响因子：
--
作者：
[吉村政志, 折井庸亮, 高橋義典, 安達宏昭, 山垣美恵子, 松原聖治, 奥山大輔, 岡田穣治, 森勇介]
通讯作者：
森勇介
Sub-180 nm generation with borate crystal
使用硼酸盐晶体的亚 180 nm 一代
使用硼酸盐晶体的亚 180 nm 一代
DOI：
10.1016/j.optmat.2014.01.021
发表时间：
2014
期刊：
Optical Materials
影响因子：
3.9
作者：
[C. Qu, M. Yoshimura, J. Tsunoda, Y. Kaneda, M. Imade, T. Sasaki, and Y. Mori]
通讯作者：
and Y. Mori
UV laser-induced degradation of NLO borate crystals
紫外激光诱导 NLO 硼酸盐晶体的降解
紫外激光诱导 NLO 硼酸盐晶体的降解
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
作者：
[M. Yoshimura, K. Takachiho, Y. Takahashi, T. Sasaki, and Y. Mori]
通讯作者：
and Y. Mori
CsLiB6O10結晶を用いた高出力355nm紫外光発生
使用 CsLiB6O10 晶体产生高输出 355nm 紫外光
使用 CsLiB6O10 晶体产生高输出 355nm 紫外光
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[上田健太郎, 折井庸亮, 高橋義典, 岡田穣治, 森勇介, 吉村政志]
通讯作者：
吉村政志
CsLiB6O10結晶の紫外光劣化耐性に対する素子の連続移動の効果
元件连续移动对CsLiB6O10晶体抗紫外光降解的影响
元件连续移动对CsLiB6O10晶体抗紫外光降解的影响
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[大驛悠一, 吉村政志, 高橋義典, 安達宏昭, 森勇介]
通讯作者：
森勇介
共 26 条
Polymorph control of pharmaceutical compounds
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批准号：15K14942
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项目类别：Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额：$2.33万
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财政年份：2015
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负责人：YOSHIMURA MASASHI
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依托单位：
海外基金