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Study on room temperature atomic layer deposition and its application
室温原子层沉积及其应用研究
基本信息
- 批准号：15H03536
- 负责人：
- 金额：$ 9.32万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Temperature-controlled atomic layer deposition of GaN using plasma-excited nitrogen source
使用等离子体激发氮源进行 GaN 温控原子层沉积
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：P.Pungboon Pansila;Kensaku Kanomata;Bashir Ahammad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
- 通讯作者：Fumihiko Hirose
Room-temperature atomic layer deposition of zirconium oxide using plasma excited water vapor
使用等离子体激发水蒸气进行氧化锆的室温原子层沉积
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Kentaro Tokoro;Kensaku Kanomata;Masanori Miura;Bashir Ahmmad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
- 通讯作者：Fumihiko Hirose
Room-Temperature Atomic Layer Deposition of Aluminum Silicate and its Application in Dye sensitized Solar Cells
硅酸铝的室温原子层沉积及其在染料敏化太阳能电池中的应用
- DOI：10.1116/1.5002716
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Takahiro Imai;Yoshiharu Mori;Kensaku Kanomata;Masanori Miura;Bashir Ahmmad;Shigeru Kubota;Fumihiko Hirose
- 通讯作者：Fumihiko Hirose
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- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：K. Kanomata;K. Kikuchi;B. Ahmmad;S. Kubota;F. Hirose
- 通讯作者：F. Hirose
Room Temperature Atomic Layer Deposition and its applications
室温原子层沉积及其应用
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Y. Ohno;K. Inoue;K. Fujiwara;K. Kutsukake;M. Deura;I. Yonenaga;Y. Shimizu;K. Inoue;N. Ebisawa;Y. Nagai;H. Yoshida;S. Takeda;S. Tanaka;M. Kohyama;Y. Asano;F.Hirose
- 通讯作者：F.Hirose
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Hirose Fumihiko
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- 发表时间：
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- 影响因子：0
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棟安陸，山田剛司，加藤浩之
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控制氧化石墨烯淬灭脂质双层的效率
- DOI：
- 发表时间：
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Tero Ryugo
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$ 9.32万 - 项目类别：
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