Investigation of high performance transfer free graphene device with transistor and memory operation
Investigation of high performance transfer free graphene device with transistor and memory operation
批准号:
16K06281
负责人:
Ichikawa Kazunori
金额:
$3.0万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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Thermal chemical vapor deposition graphene directly synthesized on the nickel oxide film
热化学气相沉积在氧化镍薄膜上直接合成石墨烯
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Kenmotsu, K. Ichikawa, H. Akamatsu and Y. Suda]
通讯作者:
H. Akamatsu and Y. Suda
酸化膜上への熱 CVDグラフェンの合成と酸素導入時間の影響
氧化膜上热CVD石墨烯的合成及氧气引入时间的影响
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[劒持進次郎, 市川和典, 赤松浩, 須田善行]
通讯作者:
須田善行
DOI:
--
发表时间:
2019
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Ichikawa, S. Tateishi and H. Akamatsu]
通讯作者:
S. Tateishi and H. Akamatsu
トンネル効果を利用した酸化膜上へのグラフェンの合成
利用隧道效应在氧化膜上合成石墨烯
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[吉武 道子, 塩見 俊樹, 木下 健太郎, 岸田 悟, 竹内誠,武藤浩行,藤田直幸, 堀谷真理愛, 市川和典, 赤松浩]
通讯作者:
堀谷真理愛, 市川和典, 赤松浩
アセチレンの分解効率の向上による熱CVDグラフェンの低温合成
通过提高乙炔分解效率低温合成热CVD石墨烯
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[廣瀬将人, 田橋正浩, 高橋誠, 吉野賢二, 後藤英雄, 谷川直樹 市川和典 赤松浩]
通讯作者:
谷川直樹 市川和典 赤松浩
共 13 条
Investigation of elucidating a mechanism and the improvement of a performance in graphene memory which operate by electron trap to defects
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批准号:25871039
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.91万
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财政年份:2013
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负责人:Ichikawa Kazunori
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依托单位:
海外基金