Investigation of high performance transfer free graphene device with transistor and memory operation
具有晶体管和存储器操作的高性能无转移石墨烯器件的研究
基本信息
- 批准号:16K06281
- 负责人:
- 金额:$ 3万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2016
- 资助国家:日本
- 起止时间:2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
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会议论文数量(0)
专利数量(0)
Thermal chemical vapor deposition graphene directly synthesized on the nickel oxide film
热化学气相沉积在氧化镍薄膜上直接合成石墨烯
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Kenmotsu;K. Ichikawa;H. Akamatsu and Y. Suda
- 通讯作者:H. Akamatsu and Y. Suda
酸化膜上への熱 CVDグラフェンの合成と酸素導入時間の影響
氧化膜上热CVD石墨烯的合成及氧气引入时间的影响
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:劒持進次郎;市川和典;赤松浩;須田善行
- 通讯作者:須田善行
Oxygen concentration dependence of transfer free graphene thin film transistor
无转移石墨烯薄膜晶体管的氧浓度依赖性
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Ichikawa;S. Tateishi and H. Akamatsu
- 通讯作者:S. Tateishi and H. Akamatsu
トンネル効果を利用した酸化膜上へのグラフェンの合成
利用隧道效应在氧化膜上合成石墨烯
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:吉武 道子;塩見 俊樹;木下 健太郎;岸田 悟;竹内誠,武藤浩行,藤田直幸;堀谷真理愛, 市川和典, 赤松浩
- 通讯作者:堀谷真理愛, 市川和典, 赤松浩
アセチレンの分解効率の向上による熱CVDグラフェンの低温合成
通过提高乙炔分解效率低温合成热CVD石墨烯
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:廣瀬将人;田橋正浩;高橋誠;吉野賢二;後藤英雄;谷川直樹 市川和典 赤松浩
- 通讯作者:谷川直樹 市川和典 赤松浩
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Investigation of elucidating a mechanism and the improvement of a performance in graphene memory which operate by electron trap to defects
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- 批准号:
25871039 - 财政年份:2013
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$ 3万 - 项目类别:
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- 资助金额:
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