通过氢循环开发半导体衬底的无化学和精密制造工艺-猫眼课题宝

通过氢循环开发半导体衬底的无化学和精密制造工艺

批准号：

16H04245

负责人：

Ohmi Hiromasa

金额：

$10.48万

依托单位：

Osaka University

依托单位国家：

日本

项目类别：

Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

财政年份：

2016

资助国家：

日本

项目状态：

已结题

起止时间：

2016-04-01 至 2019-03-31

来源：

https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-16H04245/

关键词：

シリコンプラズマ水素ウエハ加工製造技術欠陥制御ゲッタリングウエハナノ構造特殊加工材料加工・処理プラズマ加工電子・電気材料精密部品加工

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