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Development of metal wiring process with low environmental load using high-density hydrogen radicals

Development of metal wiring process with low environmental load using high-density hydrogen radicals
利用高密度氢自由基开发环境负荷低的金属配线工艺
批准号：
18K18809
负责人：
Ohmi Hiromasa
金额：
$3.99万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018-06-29 至 2021-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-18K18809/
关键词：
水素金属配線プラズマ成膜加工化学輸送エッチングドライエッチング高圧高速エコフレンドリー銅

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高圧水素プラズマ誘起ナノポーラス化銀表面のプラズモン特性評価
高压氢等离子体诱导的纳米多孔银表面的等离子体激元表征
DOI： --
发表时间： 2021
期刊：
影响因子： --
作者： [関戸 拓郎, 安東 卓洋, 垣内 弘章, 安武 潔, 大参 宏昌]
通讯作者： 大参 宏昌
Copper dry etching using a high-pressure plasma with non-toxic gas
使用高压等离子体和无毒气体进行铜干法蚀刻
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [Hiromasa Ohmi，Yoshiki Shirasu, Hiroaki Kakiuchi, Kiyoshi Yasutake]
通讯作者： Kiyoshi Yasutake
Significant Improvement of Copper Dry Etching Property of a High-Pressure Hydrogen-Based Plasma by Nitrogen Gas Addition
添加氮气显着改善高压氢基等离子体的铜干蚀刻性能
DOI： 10.1021/acsomega.8b03163
发表时间： 2019
期刊： ACS Omega
影响因子： 4.1
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通讯作者： and Kiyoshi Yasutake
水素ベース高圧プラズマを用いた金属の化学加工法の開発
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发表时间： 2019
期刊：
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作者： [Murata Hiromasa, Nozawa Koki, Saitoh Noriyuki, Yoshizawa Noriko, Suemasu Takashi, Toko Kaoru, 安東卓洋，白數佳紀，垣内弘章，安武潔，大参宏昌]
通讯作者： 安東卓洋，白數佳紀，垣内弘章，安武潔，大参宏昌
共 11 条
    nanostructuring on semiconductor surface for optical management by high-pressure hydrogen plasma
    • 批准号：
      20H02049
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $11.15万
    • 财政年份：
      2020
    • 负责人：
      Ohmi Hiromasa
    • 依托单位：
      Osaka University
    Development of chemical-free and sophisticated manufacturing process for semiconductor substrate through hydrogen cycle
    • 批准号：
      16H04245
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $10.48万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Ohmi Hiromasa
    • 依托单位：
      Osaka University
    Development of soft process of dimensional transformation for Si by non-equilibrium high-pressure hydrogen plasma
    • 批准号：
      15K13848
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2015
    • 负责人：
      Ohmi Hiromasa
    • 依托单位：
      Osaka University
    Direct formation of the high-quality nanowire Si from metallurgical Si source based on the plasma and nanotechnology science
    • 批准号：
      25289016
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $11.15万
    • 财政年份：
      2013
    • 负责人：
      Ohmi Hiromasa
    • 依托单位：
      Osaka University
    国内基金
    海外基金
    复合污染稻田土壤重金属同步高效超稳矿化治理技术开发
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      杜布云
    • 依托单位：
      江苏开放大学
    废弃塑料降解的新型金属催化剂研发
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      周磊
    • 依托单位：
      扬州工业职业技术学院
    新型无机非金属基膨胀型阻燃耐火包带材料研发
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      陈飞飞
    • 依托单位：
      福州大学
    电解水制氢过渡金属Ni基催化剂活性稳定性研究及器件管理
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      --
    • 批准年份：
      2026
    • 负责人：
      周银
    • 依托单位：
      泰州学院