ワイドギャップSn2+酸化物のp型化とキャリア濃度制御技術の確立

p型宽禁带Sn2+氧化物及载流子浓度控制技术的建立

基本信息

  • 批准号:
    18J11854
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.22万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018-04-25 至 2020-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

透明な太陽電池を始めとした酸化物の多様性を活かした次世代のデバイス実現に向けて、ITO(酸化インジウムスズ)など既存のn型酸化物の相方となるp型酸化物半導体の開発が不可欠である。Sn2+酸化物は、理論計算からp型キャリアである正孔の高い移動度が期待されており、新規p型酸化物として注目を集めている。しかし、正孔生成が難しく、実際にp型伝導性が得られている材料は数少ない。そのため新規材料探索が課題であった。本研究では、Sn2+酸化物であるSn2Nb2O7, Sn2Ta2O7、SnNb2O6に着目した。これらの酸化物中には一部のSn2+が酸化されて生成したNb(Ta)サイトのSn4+置換欠陥が存在する。Sn4+置換欠陥は正孔生成に寄与する欠陥である。本研究では適切な酸化条件で熱処理を行いSn4+置換欠陥の生成量を増大させることでp型伝導性の発現に初めて成功した。また、高温で焼成した試料ではn型伝導も実現し、両極性を示すことを明らかとした。さらに詳細な構造欠陥量の評価を行い、電気物性(p型/絶縁性/n型)との相関を調べた。その結果、キャリア濃度やキャリアタイプは正孔生成源であるSn4+置換欠陥と電子の生成源である酸素欠陥の相対的な生成量によって決定することを明らかとした。また、正孔生成効率は結晶構造や組成によって材料ごとに異なることを見出した。これは、酸素欠陥生成量の違いに起因すると考えられた。本研究により、正孔濃度制御のためには適切な酸化雰囲気で焼成し、構造欠陥量を制御することが重要であることが示された。また、正孔生成効率が組成や結晶構造に依存するという知見は、正孔生成に着目した新たな材料設計指針へと繋がる成果である。本研究は萌芽段階であるが、これらの成果を基に新規p型酸化物候補の絞り込みを行い、薄膜化・デバイス化へとつなげて行くことで実用化への道筋が拓かれると期待される。
The diversity of transparent solar cells from the beginning to the next generation of acid compounds is expected to develop towards ITO(acid compounds) and the existing n-type acid compounds phase and p-type acid compound semiconductors. Sn2 + acidizing compound, theoretical calculation, high mobility of positive pore, expectation, new regulation, p-type acidizing compound, attention It is difficult to form positive pores, and in fact, the number of p-type conductivity materials is small. New material exploration topics. This research focuses on Sn2 + acidified compounds such as Sn2Nb2O7, Sn2Ta2O7, and SnNb2O6. Some of these acidified compounds contain Sn2+ ions, and Nb (Ta) ions are replaced by Sn4+ ions. Sn4+ substitution is not enough. In this study, the amount of Sn4+ substitution was increased and the p-type conductivity was successfully developed under appropriate acidification conditions. The sample was sintered at high temperature, and the n-type conductivity was observed. In addition, detailed structural evaluation, electrical properties (p-type/insulating/n-type) and correlation are also discussed. As a result, the concentration of Sn4+ is determined by the amount of Sn4+ in the positive hole generation source. The formation rate of positive pores is different from that of the crystalline structure. The reason for the lack of production of acid is discussed. This study shows the importance of controlling pore concentration in the process of acidification and combustion. For example, the formation rate of positive pores depends on the composition and crystal structure, and the formation rate of positive pores depends on the results of new material design. This study is based on the results of the embryonic stage and the new p-type acidifier candidate.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
p型三元系Sn2+酸化物における正孔生成と酸素欠陥生成による電荷補償
p型三元Sn2+氧化物中空穴生成和氧缺陷生成的电荷补偿
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三溝 朱音;菊地 直人;簔原 誠人;阪東 恭子;相浦 義弘;西尾圭史
  • 通讯作者:
    西尾圭史
ワイドギャップp型酸化物SnNb2O6における構造欠陥量と電気物性の相関
宽禁带p型氧化物SnNb2O6结构缺陷量与电性能的相关性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三溝朱音;菊地直人;相浦義弘;西尾圭史
  • 通讯作者:
    西尾圭史
New p-type oxide semiconductor with tunable band gap, Sn2(Nb2-xTax)O7.
带隙可调的新型p型氧化物半导体Sn2(Nb2-xTax)O7。
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Akane Samizo;Naoto Kikuchi;Yoshihiro Aiura;Keishi Nishio
  • 通讯作者:
    Keishi Nishio
新規p型ワイドギャップSn2+酸化物SnNb2O6における正孔生成
新型 p 型宽禁带 Sn2+ 氧化物 SnNb2O6 中的空穴生成
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三溝朱音;菊地直人;相浦義弘;西尾圭史
  • 通讯作者:
    西尾圭史
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

三溝 朱音其他文献

酸素雰囲気アニールによるp型α-SnWO4のキャリア濃度向上
氧气氛退火提高p型α-SnWO4载流子浓度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    土橋 優香;菊地 直人;簔原 誠人;三溝 朱音;西尾 圭史
  • 通讯作者:
    西尾 圭史
In3+添加Bi2Sn2O7の作製とサイト選択的な酸素欠陥生成
In3+掺杂Bi2Sn2O7的制备及位点选择性氧缺陷的产生
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    佃 康平;菊地 直人;簔原 誠人;三溝 朱音;土橋 優香; 西尾 圭史
  • 通讯作者:
    西尾 圭史
八面体中の欠陥構造を利用したα-SnWO4のp型伝導性の発現
使用八面体缺陷结构表达 α-SnWO4 中的 p 型电导率
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    土橋 優香;三溝 朱音;佃 康平;西尾 圭史;菊地 直人;簔原 誠人;組頭 広志
  • 通讯作者:
    組頭 広志
Visualization of surface plasmons propagating at the buried organic-metal interface
在掩埋有机金属界面处传播的表面等离子体激元的可视化
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    土橋 優香;菊地 直人;三溝 朱音;簔原 誠人;佃 康平;組頭 広志;西尾 圭史;M. Shibuta
  • 通讯作者:
    M. Shibuta
熱力学・動力学的条件制御に基づくSnO薄膜の移動度制御
基于热力学和动力学条件控制的 SnO 薄膜迁移率控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    簔原 誠人;三溝 朱音;菊地 直人;阪東 恭子;吉田 良行;相浦 義弘
  • 通讯作者:
    相浦 義弘

三溝 朱音的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

相似海外基金

ワイドギャップ系パワー半導体のスイッチング機能を用いた直流遮断法の開発
利用宽禁带功率半导体的开关功能开发直流切断方法
  • 批准号:
    24K00867
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
オキシカルコゲナイドの欠陥学理の構築とワイドギャップ半導体の設計・開拓への展開
硫族元素缺陷理论的构建及其在宽禁带半导体设计开发中的发展
  • 批准号:
    24H00376
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
熱活性化ワイドギャップ半導体シングルナノ粒子による熱触媒機能の開拓
利用热活化宽禁带半导体单纳米粒子开发热催化功能
  • 批准号:
    23K23183
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
超ワイドギャップ半導体の両極性電気伝導発現に向けた物性の解明と制御
超宽带隙半导体双极导电物理特性的阐明和控制
  • 批准号:
    23K26560
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ボンドエンジニアリング記述子の開発とそのワイドギャップ半導体結晶成長への適用
键合工程描述符的开发及其在宽禁带半导体晶体生长中的应用
  • 批准号:
    24K08268
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
UVアシスト研磨における高濃度オゾン水供給の効果
供应高浓度臭氧水在紫外辅助抛光中的效果
  • 批准号:
    23K03618
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
In situ three-dimensional measurement of wide bandgap semiconductors with stimulated Raman scattering
利用受激拉曼散射对宽带隙半导体进行原位三维测量
  • 批准号:
    23H00271
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
超ワイドギャップ半導体の両極性電気伝導発現に向けた物性の解明と制御
超宽带隙半导体双极导电物理特性的阐明和控制
  • 批准号:
    23H01867
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ワイドギャップ半導体デバイスシミュレーションのための物性物理モデル構築
宽禁带半导体器件模拟的凝聚态物理模型的构建
  • 批准号:
    23K03944
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
実動作中のワイドギャップ半導体パワーデバイスにおける転位の動的な挙動の観察
宽禁带半导体功率器件实际运行过程中位错动态行为的观察
  • 批准号:
    23K17356
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.22万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了