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Growth technique of High quality gallium oxide crystal by toxic gas-free OVPE method

Growth technique of High quality gallium oxide crystal by toxic gas-free OVPE method
无毒气体OVPE法高品质氧化镓晶体生长技术
批准号:
21K18910
负责人:
Imanishi Masayuki
金额:
$4.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
财政年份:
2021
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2021-07-09 至 2023-03-31

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金属酸化物結晶の製造方法、金属酸化物エピタキシャル結晶積層基板の製 造方法、半導体装置の製造方法、金属酸化物結晶、金属酸化物エピタキシャル結晶積層基 板、半導体装置、及び金属酸化物結晶製造装置
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DOI: --
发表时间: 2021
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
OVPE法によるサファイア及びGa2O3基板上β-Ga2O3結晶成長
OVPE 法在蓝宝石和 Ga2O3 衬底上生长 β-Ga2O3 晶体
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [今西 正幸, 小林 大也, 奥村 加奈子, 細川 敬介, 宇佐美 茂佳, 富樫 理恵, 秦 雅彦, 森 勇介]
通讯作者: 森 勇介
Ga2O, H2O原料ガスを用いた高温・高速酸化ガリウム成長の熱力学的検討
使用Ga2O和H2O源气体高温高速生长氧化镓的热力学研究
DOI: --
发表时间: 2022
期刊:
影响因子: --
作者: [富樫 理恵,鈴木 明香里,石田 遥夏, 宇佐美 茂佳,今西 正幸, 秦 雅彦,森 勇介]
通讯作者: 宇佐美 茂佳,今西 正幸, 秦 雅彦,森 勇介
Study of thick GaN crystals with low-dislocation density by the vapor phase epitaxy with an oxide gallium source
  • 批准号:
    20H02639
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $11.65万
  • 财政年份:
    2020
  • 负责人:
    Imanishi Masayuki
  • 依托单位:
Enlargement of defect-free GaN crystals by the Na-flux method
  • 批准号:
    18K14138
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
  • 资助金额:
    $2.58万
  • 财政年份:
    2018
  • 负责人:
    Imanishi Masayuki
  • 依托单位:
海外基金