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Development of innovative application of graphene nanoribbon with advanced plasma processing
先进等离子体处理石墨烯纳米带创新应用的开发
基本信息
- 批准号：25706028
- 负责人：
- 金额：$ 15.97万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Pulse Plasma CVD for Narrow Chirality Distribution Growth of Single-Walled Carbon Nanotubes
脉冲等离子体 CVD 用于单壁碳纳米管的窄手性分布生长
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：B. Xu;T. Kato;and T. Kaneko
- 通讯作者：and T. Kaneko
Solar Cell Fabrication with Controllably Carrier doped Semiconducting Single-Walled Carbon Nanotube Films
采用可控载流子掺杂半导体单壁碳纳米管薄膜制造太阳能电池
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：赤間俊紀;加藤俊顕;安彦嘉浩;畠山力三;金子俊郎
- 通讯作者：金子俊郎
Fabrication of infrared solar cell with controllably carrier doped stable semiconducting single-walled carbon nanotube filmss
可控载流子掺杂稳定半导体单壁碳纳米管薄膜红外太阳能电池的制备
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Akama;T. Kato;Y. Abiko;R. Hatakeyama and T. Kaneko
- 通讯作者：R. Hatakeyama and T. Kaneko
Plasma Applied Nanocarbon Nano-Science and -Technology
等离子体应用纳米碳纳米科学与技术
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：R. Hatakeyama;T. Kato;and T. Kaneko
- 通讯作者：and T. Kaneko
Fabrication of Highly Integrated Graphene Nanoribbon Field Effect Transistors
高度集成石墨烯纳米带场效应晶体管的制造
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Kato;R. Hatakeyama and T. Kaneko
- 通讯作者：R. Hatakeyama and T. Kaneko
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- 作者：
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Kato Toshiaki其他文献
Quantum dots in new materials for quantum devices
量子器件新材料中的量子点
- DOI：
- 发表时间：
2023 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Kato Toshiaki;Kitada Takahito;Seo Mizuki;Okita Wakana;Sato Naofumi;Shinozaki Motoya;Abe Takaya;Kumasaka Takeshi;Aizawa Takumi;Muto Yui;Kaneko Toshiro;Otsuka Tomohiro;Tomohiro Otsuka - 通讯作者：
Tomohiro Otsuka
グラフェンの記録的な高い熱電性能
石墨烯的热电性能创历史新高
- DOI：
- 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Li Qin-Yi;Kato Toshiaki;Ruan Xiulin;Takahashi Koji - 通讯作者：
Takahashi Koji
Kato Toshiaki的其他文献
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{{ truncateString('Kato Toshiaki', 18)}}的其他基金
Plasma CVD synthesis of atomically precise 1D nanocarbon materials and its innovative applications
原子级精确一维纳米碳材料的等离子体CVD合成及其创新应用
- 批准号：
19H00664 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Instructional Design for Enhancement of Critical thinking ability of Children: Development of Curriculum and Instructional Model for Social Studies Classroom
提升儿童批判性思维能力的教学设计：社会科课堂课程与教学模式的开发
- 批准号：
18K02530 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
A Developmental Study on the Design of Social Studies Classes to cultivate critical thinking ability of junior high school students
培养初中生批判性思维能力的社会科课程设计的发展研究
- 批准号：
15K04436 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Fabrication of novel molecular motor device with hybrid nanocarbon materials grown by plasma processing
利用等离子体处理生长的混合纳米碳材料制造新型分子马达装置
- 批准号：
25600119 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
相似海外基金
大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜のサブナノ細孔構造制御と超薄膜製膜技術の確立
常压等离子体CVD法二氧化硅膜亚纳米孔结构控制及超薄膜形成技术的建立
- 批准号：
23K23119 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
プラズマCVDを用いた低応力・高密度カーボンナノコンポジット膜の高速製膜法の創成
使用等离子体CVD创建低应力、高密度碳纳米复合材料薄膜的高速薄膜生产方法
- 批准号：
20J13122 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高選択透過アモルファス分離膜のプラズマCVD製膜とフレキシブルセラミック膜の創製
等离子体CVD制备高选择性渗透非晶分离膜及柔性陶瓷膜的制作
- 批准号：
21656199 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
マイクロ波プラズマCVD法によるハイパワーナノダイヤモンドダイオードの作製
微波等离子体CVD法制备高功率纳米金刚石二极管
- 批准号：
07J10950 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
高強度レーザー誘起プラズマCVD法によるセラミックス膜の超高速合成とナノ構造制御
高强度激光诱导等离子体CVD法陶瓷薄膜的超快合成和纳米结构控制
- 批准号：
17686055 - 财政年份：2005
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
プラズマCVDによるTiN-基組成傾斜膜のコーティングと耐腐食性
等离子CVD制备TiN基成分梯度薄膜及其耐蚀性能
- 批准号：
03F03293 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
プラズマCVDによるTiN基組成傾斜膜のコーティングと耐腐食性
等离子体CVD制备TiN基成分梯度薄膜及其耐蚀性能
- 批准号：
03F00293 - 财政年份：2003
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
プラズマCVD法によるシリコン結晶成長過程における水素原子の動力学に関する研究
等离子体CVD法硅晶体生长过程中氢原子动力学研究
- 批准号：
13750033 - 财政年份：2001
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
低誘電率層間絶縁膜作製プラズマCVDの表面和周波発生振動分光による診断
使用等离子体CVD表面和频产生振动光谱诊断低介电常数层间绝缘膜生产
- 批准号：
12750269 - 财政年份：2000
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
大気圧グロー放電プラズマによるレーザ発振およびプラズマCVDへの応用
使用大气压辉光放电等离子体的激光振荡和等离子体CVD的应用
- 批准号：
09750820 - 财政年份：1997
- 资助金额：
$ 15.97万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)