Room-temperature bonding of compound semiconductors and its application to high heat dissipation structure

化合物半导体室温键合及其在高散热结构中的应用

基本信息

  • 批准号:
    25289085
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.98万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Room-temperature wafer bonding using Al/Ti/Au layers for integrated reflectors in the ultraviolet spectral region
使用 Al/Ti/Au 层进行室温晶圆键合,用于紫外光谱区域的集成反射器
The Influence of Air Exposure Time on Bonding Strength in Au-Au Surface Activated Wafer Bonding
Au-Au表面活化晶片键合中空气暴露时间对键合强度的影响
高放熱デバイス応用をめざした常温ウェハ接合
适用于高散热器件应用的室温晶圆键合
Room-Temperature Gold-Gold Bonding Method Based on Argon and Hydrogen Gas Mixture Atmospheric-Pressure Plasma Treatment for Optoelectronic Device Integration
  • DOI:
    10.1587/transele.e99.c.339
  • 发表时间:
    2016-03-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0.5
  • 作者:
    Higurashi, Eiji;Yamamoto, Michitaka;Sawada, Renshi
  • 通讯作者:
    Sawada, Renshi
高出力半導体レーザの高放熱構造をめざしたGaAs/SiC常温接合に関する研究
高功率半导体激光器高散热结构GaAs/SiC室温键合研究
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  • 通讯作者:
    Higurashi Eiji

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