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Nanolithography techniques for optoelectronic and electronic device fabrication

用于光电和电子器件制造的纳米光刻技术

基本信息

批准号：
138052-2006
负责人：
Beauvais, Jacques
金额：
$ 3.17万
依托单位：
Université de Sherbrooke
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
财政年份：
2011
资助国家：
加拿大
起止时间：
2011-01-01 至 2012-12-31
项目状态：
已结题

来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=475758
关键词：
Nanolithography techniques optoelectronic electronic device

项目摘要

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项目成果

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Beauvais, Jacques其他文献

Framework for the analysis of nanotechnologies' impacts and ethical acceptability: basis of an interdisciplinary approach to assessing novel technologies.

DOI：
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发表时间：
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期刊：
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影响因子：
3.7
作者：
Patenaude, Johane;Legault, Georges-Auguste;Beauvais, Jacques;Bernier, Louise;Beland, Jean-Pierre;Boissy, Patrick;Chenel, Vanessa;Daniel, Charles-Etienne;Genest, Jonathan;Poirier, Marie-Sol;Tapin, Danielle
通讯作者：
Tapin, Danielle

Directly grown large area single-walled carbon nanotube films with very high sensitivity to normal pressure

DOI：
10.1063/1.3676580
发表时间：
2012-01-15
期刊：
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
影响因子：
3.2
作者：
Genest, Jonathan;Kim, Keun Su;Beauvais, Jacques
通讯作者：
Beauvais, Jacques

Silicon nitride nanotemplate fabrication using inductively coupled plasma etching process

DOI：
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期刊：
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影响因子：
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作者：
Ayari-Kanoun, Asma;Jaouad, Abdelatif;Beauvais, Jacques
通讯作者：
Beauvais, Jacques

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