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Chemical vapour deposition and rapid thermal processing tool to support nanoelectronics research

Chemical vapour deposition and rapid thermal processing tool to support nanoelectronics research
支持纳米电子学研究的化学气相沉积和快速热处理工具
批准号：
RTI-2017-00152
负责人：
Baugh, Jonathan
金额：
$10.93万
依托单位：
University of Waterloo
依托单位国家：
加拿大
项目类别：
Research Tools and Instruments
财政年份：
2016
资助国家：
加拿大
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-01-01 至 2017-12-31
来源：
https://www.nserc-crsng.gc.ca/ase-oro/Details-Detailles_eng.asp?id=616573
关键词：
Chemicalvapourdepositionrapidthermal

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Scalable semiconductor quantum technologies
  • 批准号：
    RGPIN-2018-04375
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $5.97万
  • 财政年份：
    2022
  • 负责人：
    Baugh, Jonathan
  • 依托单位：
    University of Waterloo
Scalable semiconductor quantum technologies
  • 批准号：
    RGPIN-2018-04375
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.99万
  • 财政年份：
    2021
  • 负责人：
    Baugh, Jonathan
  • 依托单位：
    University of Waterloo
Scalable semiconductor quantum technologies
  • 批准号：
    RGPIN-2018-04375
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.99万
  • 财政年份：
    2020
  • 负责人：
    Baugh, Jonathan
  • 依托单位：
    University of Waterloo
Scalable semiconductor quantum technologies
  • 批准号：
    RGPIN-2018-04375
  • 项目类别：
    Discovery Grants Program - Individual
  • 资助金额：
    $2.99万
  • 财政年份：
    2019
  • 负责人：
    Baugh, Jonathan
  • 依托单位：
    University of Waterloo
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