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一种等离子体基离子注入/沉积新方法的基本理论和技术研究

批准号：
10775013
项目类别：
面上项目
资助金额：
29.0 万元
负责人：
李刘合
依托单位：
北京航空航天大学
学科分类：
离子注入及离子束材料改性
结题年份：
2010
批准年份：
2007
项目状态：
已结题
项目参与者：
康慧、曲平、尹蓝、魏志国、梁爱凤、卢求元、陈田田、高原
关键词：
全方位离子注入鞘层电子聚焦电场增强等离子体

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中文摘要
提出了一种新型的等离子体基离子注入/沉积表面改性新方法- - 电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积，前期的研究证明了该方法的可行性，虽然该方法是完全具有自主知识产权的新型离子注入技术，并且目前已经申请了两项国内专利和一项美国专利,但仍然需要对其基本理论进行更深入的研究。研究包括从理论上建立该新型注入/沉积方法的等离子体增强机理以及离子的分布规律模型，深入研究电子聚焦电场增强等离子体辉光增强机理和微观机制。深入研究这种方法的等离子体密度分布模型，建立电子聚焦电场增强等离子体离子注入－沉积方法中的离子分布规律等，研究其等离子体注入鞘层扩展规律。研究对进一步推进离子注入在材料表面改性领域中的应用理论和技术具有重要意义。
英文摘要
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Mechanical properties of tungsten doped amorphous hydrogenated carbon films prepared by tungsten plasma immersion ion implantation
钨等离子体浸没离子注入制备掺钨非晶氢化碳薄膜的力学性能
DOI： 10.1016/j.endend.2009.03.065
发表时间： 2008-09
期刊： Surface & Coatings Technology
影响因子： 5.4
作者： [Xu, M Zhang, W Wu, ZW Pu, SH Li, LH Chu, PK]
通讯作者： Xu, M Zhang, W Wu, ZW Pu, SH Li, LH Chu, PK
Improved hydrogen ionization rate in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation by enlarging the interaction path using an insulating tube.
DOI： 10.1063/1.3544022
发表时间： 2011-02
期刊： The Review of scientific instruments
影响因子： --
作者： [Zhuo Wang;Ying Zhu;Liuchun Li;Q. Lu;F. He;D. Dun;Fen Li;R. Fu;P. Chu]
通讯作者： Zhuo Wang;Ying Zhu;Liuchun Li;Q. Lu;F. He;D. Dun;Fen Li;R. Fu;P. Chu
Impact energy and retained dose uniformity in enhanced glow discharge plasma immersion ion implantation
增强辉光放电等离子体浸没离子注入中的冲击能量和保留剂量均匀性
DOI： 10.1063/1.3204697
发表时间： 2009-08
期刊： Applied Physics Letters
影响因子： 4
作者： [Fu, Ricky K. Y., Li, Jian Hui, Li, Liu He, Chu, Paul K., Lu, Qiu Yuan]
通讯作者： Lu, Qiu Yuan
Thickness uniformity and surface morphology of Fe, Ti, and Hf films produced by filtered pulsed cathodic arc deposition
过滤脉冲阴极电弧沉积制备的 Fe、Ti 和 Hf 薄膜的厚度均匀性和表面形貌
DOI： 10.1016/j.surfcoat.2008.08.026
发表时间： 2008-12
期刊： Surface & Coatings Technology
影响因子： 5.4
作者： [Li, LH Lu, QY Fu, RKY Chu, PK]
通讯作者： Li, LH Lu, QY Fu, RKY Chu, PK
共 13 条
    "脉动等离子体”的产生、传输和控制研究
    • 批准号：
      12275014
    • 项目类别：
      面上项目
    • 资助金额：
      56万元
    • 批准年份：
      2022
    • 负责人：
      李刘合
    • 依托单位：
      北京航空航天大学
    真空带状阴极电弧等离子体产生、过滤机理研究
    • 批准号：
      11275020
    • 项目类别：
      面上项目
    • 资助金额：
      90.0万元
    • 批准年份：
      2012
    • 负责人：
      李刘合
    • 依托单位：
      北京航空航天大学
    电子聚焦电场增强等离子体离子注入/沉积基本理论研究
    • 批准号：
      11075012
    • 项目类别：
      面上项目
    • 资助金额：
      48.0万元
    • 批准年份：
      2010
    • 负责人：
      李刘合
    • 依托单位：
      北京航空航天大学
    铝合金表面多层膜结构与力学性能之间关系的研究
    • 批准号：
      50271004
    • 项目类别：
      面上项目
    • 资助金额：
      25.0万元
    • 批准年份：
      2002
    • 负责人：
      李刘合
    • 依托单位：
      北京航空航天大学
    国内基金
    海外基金