Ultrahochvakuum-Beschichtungsanlage für die Laserpulsabscheidung von Mehrschichtsystemen

为了使自旋电子学的研究项目更加完善和优化，该公司与位于切姆尼茨的弗劳恩霍夫研究所的ENAS合作，并与韦尔登的研究和工业界建立了合作伙伴关系，以研究和优化自旋电子学的激光脉冲。这种Ziel可以只进行韦尔登，如果使用一种中性的UHV-PLD-Beschichtungsanlage konzipiert和beschafft，则可以使用带有4个Zoll Durchmesser的5个衬底进行焊接，这些衬底带有dickenhomogenen、kontaminations-和partikulatfreien Schichtstapeln，它们来自10种超高压真空中的垂直材料。Die Anlage soll darüber hinaus auch für die Abscheidung von neuartigen Schichtstapeln unter anderem für Verschleißschutz- und tribologische Anwendungen zum Beispiel auf Bauteilen im Motorenbau eingesetzt韦尔登。

Um den geplanten industriellen Einsatz der im laufenden Forschungsprojekt Spintronik untersuchten und optimierten Schichtstapel zu ermöglichen, soll gemeinsam mit dem Fraunhofer Institut ENAS in Chemnitz und weiteren sächsischen Partnern aus Forschung und Industrie das Verfahren der Laserpulsabscheidung für die Erzeugung von Spintronik-Schichtstapeln qualifiziert werden. Dieses Ziel kann umfassend nur erreicht werden, wenn eine neuartige UHV-PLD-Beschichtungsanlage konzipiert und beschafft wird, die die aufeinander folgende Beschichtung von wenigstens 5 Substraten mit 4 Zoll Durchmesser mit dickenhomogenen, kontaminations- und partikulatfreien Schichtstapeln aus 10 verschiedenen Materialien im Ultrahochvakuum ermöglicht. Die Anlage soll darüber hinaus auch für die Abscheidung von neuartigen Schichtstapeln unter anderem für Verschleißschutz- und tribologische Anwendungen zum Beispiel auf Bauteilen im Motorenbau eingesetzt werden.