Spektroskopische und präparative Untersuchungen zur Reaktivität von subvalenten Siliciumverbindungen

通过韦尔登低聚物基质的制备，开始了高温分子硅合成工艺，并通过对合成结果的分析，确定了a）稳定的SixOx-样品和B）一种确定的SiO-Phase和通过SiO_2在金属复合物中的取代使单一SiO_2稳定的方法。利用SiHx-Spezies的基质隔离技术，在光谱分析中进行合成，可以获得韦尔登的SiHx-Spezies，并在CVD-Abscheidung Silicium zukommt的基础上进行中心研究。在热处理过程中，由于温度变化不大，因此需要用一种特殊的高分子材料进行韦尔登，使Si-Atome、SiH-、SiH 2-和SiH 3-分子发生反应，并使其在热处理过程中产生膨胀。联合以新的方式进行交流。

Fußend auf den Matrixergebnissen der letzten Antragsperiode (SiO-Oligomerisierung) soll versucht werden, die zum Teil begonnenen, technisch aufwendigen Versuche zu Synthesearbeiten mit dem Hochtemperaturmolekül SiO mit folgenden Zielen zum Erfolg zu führen: der Herstellung von a) donorstabilisierten SixOx-Spezies und b) einer definierten festen SiO-Phase und der Stabilisierung von monomerem SiO durch Substitution von SiO in Übergangsmetallkomplexen. Neben den Synthesearbeiten im spektroskopischen Bereich mit Hilfe der Matrixisolation sollen SiHx-Spezies untersucht werden, denen eine zentrale Bedeutung als Zwischenstufen bei der CVD-Abscheidung von Silicium zukommt. Nachdem thermische Verfahren in der Vergangenheit nicht zum Erfolg geführt haben, soll jetzt mit einer gepulsten Hochspannungsentladung versucht werden, Spezies wie Si-Atome, SiH-, SiH2- und SiH3-Moleküle zu erzeugen und in festen Edelgasen u. U. zu neuen Verbindungen umzusetzen.