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Dünne Schichten aus schnellen Clustern

Dünne Schichten aus schnellen Clustern
快速簇的薄层
批准号:
5289924
负责人:
Professor Dr. Hellmut Haberland
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2001
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2000-12-31 至 2003-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
Dünne Schichten könnnen MIT Geringem Materialaufwand模具机械、电子、化学等。他们的理想来自于他们所在的国家和地区,而不是他们的国家和地区。他们的想法是:从我们的国家和地区出发,从他们的国家和地区得到更多的经济利益。这一簇是由一群人和一群人组成的,他们的名字是Geschwindigkeit von einigen Kilometern。在这一过程中,所有的人都不知道自己的心情和温度,也不知道该怎么做,也不知道怎么做。企业:1)企业集团;2)企业集团;2)企业集团;3)企业集团;3)企业集团;3)企业集团;3)企业集团;3)企业集团;
英文摘要
Dünne Schichten können mit geringem Materialaufwand die mechanischen, elektrischen, chemischen, etc. Eigenschaften von Materialien völlig verändern. Die Idee des in der Arbeitsgruppe des Antragstellers entwickelten Verfahrens unterscheidet sich in einem wesentlichen Punkt von allen anderen Beschichtungsverfahren: die Atome treffen nicht einzeln auf die zu beschichtende Oberfläche, sondern werden vorher zu einem sogenannten Cluster aus einigen tausend Atomen zusammengelagert. Die Cluster werden elektrisch beschleunigt und mit einer Geschwindigkeit von einigen Kilometern pro Sekunde auf die Oberfläche geschossen. Durch diesen massiven Aufprall steigen kurzzeitig Druck und Temperatur an der Aufschlagstelle stark an, was zu gut haftenden und dichten Schichten führt, selbst dann, wenn das Substrat Raumtemperatur hat und nicht besonders gereinigt wurde. Folgende Untersuchungen sind geplant: 1) Entwicklung einer intensiveren Clusterquelle, 2) Startschichten für die galvanisch oder außen-stromlose Metallabscheidung von sehr kleinen Strukturen, 3) Entwicklung von bio-kompatiblen TiN Schichten, die keine kleinen Löcher (pin-holes) haben.
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会议论文
Ultraschnelle Relaxationsprozesse in großen Siliziumclustern
  • 批准号:
    5267672
  • 项目类别:
    Priority Programmes
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    1996
  • 负责人:
    Professor Dr. Hellmut Haberland
  • 依托单位:
海外基金