Nano-chemical modification of diamond surfaces by a probing method in controlled atmosphere
Nano-chemical modification of diamond surfaces by a probing method in controlled atmosphere
批准号:
18360348
负责人:
MITSUDA Yoshitaka
金额:
$11.23万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2009
中文摘要
利用扫描探针显微镜研究了电流诱导化学修饰金刚石的表面终止。分析了氢封端和氧封端在高真空条件下的稳定性。通过对微波等离子体化学气相沉积过程中的原位等离子体分析,讨论了金刚石成核和氢终止的条件。氢终止引起的表面导电层经隧穿电流处理后转变为绝缘层。
英文摘要
Scanning probe microscopy was utilized for controlling the surface termination of diamond by current-induced chemical modification. Stabilities of hydrogen- and oxygentermination were analyzed in ultrahigh vacuum. Conditions for diamond nucleation and hydrogen termination were discussed on the basis of in-situ plasma analyses in microwave plasma chemical vapor deposition. Surface electric conduction layer caused by hydrogen termination was converted to insulating layer after treatment by tunneling current.
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H2Sガスを用いたSドープ多結晶ダイヤモンド膜の作製
H2S气体制备S掺杂多晶金刚石薄膜
DOI:
--
发表时间:
2009
期刊:
影响因子:
--
作者:
[藤田龍平, 野瀬健二, 光田好孝]
通讯作者:
光田好孝
ダイヤモンド核生成環境における照射イオンのエネルギー及びフラックスの定量化
金刚石成核环境中辐照离子能量和通量的量化
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[野瀬健二, 諏訪剛史, 光田好孝]
通讯作者:
光田好孝
毎年5月末-6月初旬に開催される「駒場リサーチキャンパス公開」において、研究成果を公開した。
研究结果在每年5月底至6月初举行的“驹场研究园开放日”上公开。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
A numerical simulation of ion acceleration to negatively-biased substrates in a microwave-plasma chemical vapor deposition of diamond
微波等离子体化学气相沉积金刚石中离子对负偏压基底加速的数值模拟
DOI:
--
发表时间:
2008
期刊:
影响因子:
--
作者:
[K. Nose, Y. Mitsuda, K,Nose and Y,Mitsuda]
通讯作者:
K,Nose and Y,Mitsuda
ウェブページにおける研究概要の紹介
网页上介绍研究概况
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 22 条
Fabrication of tin oxide transparent conductive films with hole conductivity
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批准号:24360302
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$11.23万
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财政年份:2012
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负责人:MITSUDA Yoshitaka
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依托单位:
Epitaxial precipitation of grapheneby microwave plasma chemical vapor deposition
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批准号:23656450
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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资助金额:$2.41万
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财政年份:2011
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负责人:MITSUDA Yoshitaka
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依托单位:
Low Temperature Fabrication of Diamond Films by CVD Method with Laser Induced Surface Reaction
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批准号:13450291
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$9.66万
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财政年份:2001
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负责人:MITSUDA Yoshitaka
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依托单位:
Low Temperature Fabrication of Capacitance Materials with High Dielectric Constant for Application of Non-Volatile Memory
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批准号:13555194
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.89万
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财政年份:2001
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负责人:MITSUDA Yoshitaka
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依托单位:
Reliability Improvement of Diamond Film Cutting Tools by Two-step CVD Growth Technique
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批准号:10555243
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$6.98万
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财政年份:1998
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负责人:MITSUDA Yoshitaka
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依托单位:
Enlargement of Deposition Area in Heteroepitaxial Growth of Diamond Film by CVD.
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批准号:09650781
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.5万
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财政年份:1997
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负责人:MITSUDA Yoshitaka
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依托单位:
国内基金
海外基金
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稀土元素Y的选择性氧化致Mg-Zn-Y-Zr合金表面层组织演变及耐蚀性改善机制的研究
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批准号:2026JJ50467
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:吴落义
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依托单位:
基于可重构智能表面的共生无线电关键技术研究
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批准号:2026JJ50514
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:黄柯文
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依托单位:
表面集成结构富锂层状正极材料的制备及电压稳定性机理
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:肖渊
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依托单位:
调控外源性N-羟乙酰神经氨酸在细胞表面沉积的关键唾液酸转移酶筛选及其调控机制研究
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批准号:2026JJ90021
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:何恩祺
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依托单位:
高端装备核心动力构件损伤抑制与表面强化技术
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:刘思思
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依托单位:
H13表面激光熔覆原位自生TiC/高熵合金复合涂层熔池演化与界面多尺度强韧化
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批准号:JCZRLH202600416
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:
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依托单位:
药品表面缺陷视觉检测技术研究
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:江登表
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依托单位:
高纯精密石英制品表面痕量检测技术的研究开发
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批准号:
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:王晓亮
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依托单位:
芯片封装体高动态反光表面三维成像和弱纹理特征匹配机制
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批准号:2026JJ80818
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:钟富强
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依托单位:
面向精密检测的二维材料-超表面异质结光电调控器件研究
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批准号:2026JJ80819
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项目类别:省市级项目
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资助金额:--
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批准年份:2026
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负责人:喻霞
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依托单位: