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Fabrication of tin oxide transparent conductive films with hole conductivity
具有空穴导电性的氧化锡透明导电薄膜的制备
基本信息
- 批准号：24360302
- 负责人：
- 金额：$ 11.23万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2012
- 资助国家：日本
- 起止时间：2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Transparent and conductive amorphous stannic oxide thin films deposited by plasma-enhanced pulsed laser deposition
等离子体增强脉冲激光沉积沉积透明导电非晶氧化锡薄膜
- DOI：
- 发表时间：2013
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：N.Oda;K.Nose;M.Kamiko;Y.Mitsuda
- 通讯作者：Y.Mitsuda
Oxidation of SnO to SnO2 thin films in boiling water at atmospheric pressure
- DOI：10.1063/1.4867654
- 发表时间：2014-03-03
- 期刊：
- 影响因子：4
- 作者：Nose, K.;Suzuki, A. Y.;Mitsuda, Y.
- 通讯作者：Mitsuda, Y.
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- 批准号：
EP/R018367/1 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
Research Grant
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- 批准号：
17J03057 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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- 批准号：
10J10478 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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- 批准号：
18918026 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 11.23万 - 项目类别：
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$ 11.23万 - 项目类别：
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