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Monomer return flow in hollow cathode jet plasma sources for film deposition

Monomer return flow in hollow cathode jet plasma sources for film deposition
用于薄膜沉积的空心阴极喷射等离子体源中的单体回流
批准号:
5403111
负责人:
Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2003
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2002-12-31 至 2005-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
这是一个对Plasmaprozessen zur Oberflächenmodifikation,Strukturierung和Schichtabscheidung感兴趣的问题,它要求对Hinblick的Plasmasysteme进行强化优化,以提高操作质量和生产率。在Hochraten-Schichtabscheidung beispielsweise von DLC-Schichten的基础上,均匀性和Schichten的Reinheit von entscheidender Bedeutung für die Güte der Behandlungs-ergebnisse。质量保证体系的建立将使我们的目标更加明确。Eine besondere Beachtung erfordert dabei das Strömungs- und Mischverhalten der am Plasmaprozess beteiligten Gase(Trägergas,München). Hierbei können neben den Verunreinigungen der Schichten ebenfalls durch ungünstige Rückströmungseffekte Kontaminationen der Reaktorwände und nicht zuletzt der Plasmaquelle selbst auftreten..通过韦尔登的实验方法,可以得到更好的Strömungssimulationen Strömungsstechnisch optiieren。一种诊断Strömungs-geschwindigkeiten的方法,如使用Gesamtdrucksonden(Prandtl-Rohr)或Hitzestrahl-Anemometrie的方法,可以在夜间进行,因为它们是侵入性技术。Das Einbringen von Messinstrumenten in die Strömung kann sich gerade in der Plasmatechnik als ein großer Störfaktor erweisen,wobei zudem der unmittelbare Kontakt mit teilweise korrosiven Gasen zu Beschädigungen der Diagnostikinstrumente führt.在本项目中,将采用激光多普勒风速仪(LDA)测量方法,该方法包括两个涡量测量、一个光学测量和一个径向测量。激光多普勒测速技术的原理是通过多普勒频移测量光信号,从而得到一种新的相位测量方法韦尔登。
英文摘要
Das anwachsende Interesse an Plasmaprozessen zur Oberflächenmodifikation, Strukturierung und Schichtabscheidung erfordert zunehmend die intensive Optimierung der Plasmasysteme im Hinblick auf die Qualität der Behandlung und die Produktionsraten. Insbesondere bei der Hochraten-Schichtabscheidung beispielsweise von DLC-Schichten sind die Homogenität und die Reinheit der Schichten von entscheidender Bedeutung für die Güte der Behandlungs-ergebnisse. Die zufriedenstellende Verbesserung dieser Qualitätsmerkmale stellt bislang immer noch eine Herausforderung dar. Eine besondere Beachtung erfordert dabei das Strömungs- und Mischverhalten der am Plasmaprozess beteiligten Gase (Trägergas, Monomer). Hierbei können neben den Verunreinigungen der Schichten ebenfalls durch ungünstige Rückströmungseffekte Kontaminationen der Reaktorwände und nicht zuletzt der Plasmaquelle selbst auftreten.. Unterstützend zu bisherigen Strömungssimulationen werden daher experimentelle Methoden zur Visualisierung der Strömungen und zur Messung der Teilchengeschwindigkeiten notwendig, um die Beschichtungsanlagen strömungstechnisch optimieren zu können. Einige Diagnostikmethoden zur Bestimmung von Strömungs-geschwindigkeiten wie beispielsweise mit Gesamtdrucksonden (Prandtl-Rohr) oder mittels der Hitzestrahl-Anemometrie besitzen den Nachteil, dass sie invasive Techniken sind. Das Einbringen von Messinstrumenten in die Strömung kann sich gerade in der Plasmatechnik als ein großer Störfaktor erweisen, wobei zudem der unmittelbare Kontakt mit teilweise korrosiven Gasen zu Beschädigungen der Diagnostikinstrumente führt. In diesem Projekt wird die Methode der Laser-Doppler-Anemometrie (LDA) angestrebt, die den entscheidenden Vorteil bietet, die Teilchengeschwindigkeiten rein optisch und daher berührungslos messen zu können. Das Prinzip der LDA-Technik beruht auf der Doppler-Frequenzverschiebung von kohärenten Lichtwellen, die an bewegten Phasengrenzflächen gestreut werden.
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会议论文
Untersuchung von dielektrisch behinderten Oberflächenentladungen für den Einsatz als Remote-Plasmaquellen bei Atmosphärendruck
  • 批准号:
    5426019
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
High frequency (Radio frequency) hollow cathode discharge matrixes at atmospheric pressure for surface deposition, modification and cleaning
  • 批准号:
    5266496
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2000
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
Strömungskinematik in Hohlkathoden - Plasmajet - Entladungen für Oberflächenprozesse
  • 批准号:
    5208030
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    1999
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
Großflächige Plasmaquellen mit Multijet-Hohlkathoden-Hochfrequenz-Entladung: Untersuchung, Modellierung und Simulation
  • 批准号:
    5123426
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    1998
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Jürgen Engemann
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
返回抑制的眼动和注意成分及其神经机制
  • 批准号:
    30770717
  • 项目类别:
    面上项目
  • 资助金额:
    26.0万元
  • 批准年份:
    2007
  • 负责人:
    张明
  • 依托单位: