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Hochvakuum Beschichtungsanlage mit Load-Lock Kammer

Hochvakuum Beschichtungsanlage mit Load-Lock Kammer
带负载锁定室的高真空镀膜系统
批准号:
66782664
负责人:
金额:
$0.0万
依托单位:
依托单位国家:
德国
项目类别:
Major Research Instrumentation
财政年份:
2007
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2006-12-31 至 2009-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
他说:“我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说,我是说。”数据库数据库<s:1>数据处理系统(Univex 450)列表为benötigten Durchsatz和Proben nicht mehr gewachsen和zu einem Engpass im Ablauf der Probenherstellung geworden, der die Arbeit der Nutzer。Die Materialien, Die in der neuen beschichtungsanage metallisiert werden sollen, sind primär zweidimensionale Ladungsträgersysteme, Bulk-Halbleiter, ferromagnetische Halbleiter (GaMnAs), kohlenstoffnanororen und, seit neusystem,石墨烯。Das Gerät wind von allen博士,博士和博士后,die im Reinraum des Institutes of experimental and Angewandte Physik tätig sind, regelmäßig and intensive genutzt。用户jetziges系统(Univex 450)拥有独立的加载锁(Schleusenkammer),因此可以将单个的加载锁(Schleusenkammer)与单个的加载锁(gesamte Rezipientenvolumen)分开。Um den benötigten Basisdruck von 5x10-6 mbar zu erreichen, muss eine Abpumpzeit von ca. 90 Minuten veranschlagt werden。Um die Abpumpzeiten zu verkrzen和somit den Durchsatz and Proben zu erhöhen,出售了新系统的einem Load-Lock ausgestattet sein。
英文摘要
Das beantragte System soll eingesetzt werden, um ohmsche Kontakte, Leiterbahnen und Gates auf die unterschiedlichsten zu untersuchenden Systeme aufzubringen. Das bislang dafür vorhandene System (Univex 450) ist dem benötigten Durchsatz an Proben nicht mehr gewachsen und zu einem Engpass im Ablauf der Probenherstellung geworden, der die Arbeit der Nutzer behindert. Die Materialien, die in der neuen Beschichtungsanlage metallisiert werden sollen, sind primär zweidimensionale Ladungsträgersysteme, Bulk-Halbleiter, ferromagnetische Halbleiter (GaMnAs), Kohlenstoffnanorohren und, seit neuestem, Graphen. Das Gerät wird von allen Diplomanden, Doktoranden und Postdocs, die im Reinraum des Institutes für Experimentelle und Angewandte Physik tätig sind, regelmäßig und intensiv genutzt. Unser jetziges System (Univex 450) hat keine separate Schleusenkammer (Load-Lock), so dass vor einem Beschichtungsvorgang das gesamte Rezipientenvolumen abgepumpt werden muss. Um den benötigten Basisdruck von 5x10-6 mbar zu erreichen, muss eine Abpumpzeit von ca. 90 Minuten veranschlagt werden. Um die Abpumpzeiten zu verkürzen und somit den Durchsatz an Proben zu erhöhen, soll das neue System mit einem Load-Lock ausgestattet sein.
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会议论文
DOI: 10.1063/1.4813621
发表时间: 2013-07-08
期刊: APPLIED PHYSICS LETTERS
影响因子: 4
作者: [Mittendorff, Martin, Winnerl, Stephan, Helm, Manfred]
通讯作者: Helm, Manfred
DOI: 10.1103/physrevb.86.155403
发表时间: 2012-10-03
期刊: PHYSICAL REVIEW B
影响因子: 3.7
作者: [Minke, S., Bundesmann, J., Eroms, J.]
通讯作者: Eroms, J.
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