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Wechselwirkung zwischen dem Imprint- und Fatigue-Verhalten von ferroelektrischen Dünnschichtkondensatoren

Wechselwirkung zwischen dem Imprint- und Fatigue-Verhalten von ferroelektrischen Dünnschichtkondensatoren
铁电薄膜电容器的压印与疲劳行为之间的相互作用
批准号:
23098963
负责人:
Professor Dr.-Ing. Rainer Waser
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
2006
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
2005-12-31 至 2013-12-31

项目摘要

项目成果

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Die Ausfallphänomene Fatigue und Imprint in ferroelektrischen Dünnschichtkondensator werden seit langer Zeit untersucht. Ein geschlossenes Bild über die physikalischen Mechanismen existiert bisher jedoch nicht. Im Rahmen dieses Vorhabens soll erstmals überprüft werden, ob ein Zusammenhang zwischen beiden Effekten besteht und ob die physikalischen Ursachen für Fatigue und Imprint gleiche oder unterschiedliche Ursprünge haben, der auf die Grenzschicht zwischen dem eigentlichen ferrrolelektrischen Film und den Elektroden zurückgeführt werden kann. Zentraler Ansatz dieses Vorhabens ist es, den Einfluss dieser Grenzschicht auf das Fatigue- und Imprintverhalten nachzuweisen. Neben dem grundlegenden physikalischen Interesse hat die Randschicht auch eine sehr hohe technische Relevanz für die Anwendungen von Dünnschichtkondensatoren in nicht-flüchtigen Speichern. Mit abnehmender Strukturgröße auf der Nanometerskala steigt der Volumenanteil der Grenzschicht vom Gesamtvolumen des Kondensators und dominiert letztlich - unterhalb einer kritischen Strukturgröße - das elektrische Verhalten. Die Randschicht von Pb(Zr(Ti1-()O3-Dünnschichten soll gezielt durch verschiedene neue Ansätze beeinflusst werden. Dazu zählen Ätzschädigungen, das Einbringen von Pufferschichten, die Verwendung unterschiedlicher Elektrodenmaterialien oder ein vertikales Kondensatorkonzept mit seitlichen Elektroden, um die (wegen des Substrates stets vorhandene) asymmetrische Anordnung einer planaren Struktur aufzuheben. An diesen Proben sollen strukturelle, morphologische, elektrische oder elektromechanische Veränderungen der Randschicht im Laufe des Alterungs- bzw. Ermüdungsprozesses nachgewiesen werden. Die vertikalen Kondensatorstrukuren eignen sich gerade zum Nachweis von Änderungen der Randschicht mit Oberflächenempfindlichen Methoden, da bei diesen Strukturen die Randschicht frei zugänglich ist. Das Verhalten der ferroelektrischen Kondensatoren soll in bestimmten Fatigue- bzw. Imprintzuständen mit verschiedenen Methoden, u.a. Monte-Carlo-Simulation oder akustisches Ersatzschaltbild, simuliert werden, um einerseits eine Bewertung der existierenden physikalischen Modelle zu ermöglichen oder andererseits die Entwicklung neuer Modellansätze wie thermodynamischer Rechnungen oder ab-initio-Rechnungen zu eröffnen.
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  • 批准号:
    5411221
  • 项目类别:
    Research Grants
  • 资助金额:
    $0.0万
  • 财政年份:
    2003
  • 负责人:
    Professor Dr.-Ing. Rainer Waser
  • 依托单位:
海外基金