Understanding Channel Conductance Mechanism of Hf-based Ferroelectric-gate FETs Toward the Artificial Neural Network Application
了解铪基铁电栅 FET 的沟道电导机制以实现人工神经网络应用
基本信息
- 批准号:19K15021
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
TiN/Hf0.5Zr0.5O2/Si MFSキャパシタの電気特性に与える基板タイプの影響
基材类型对TiN/Hf0.5Zr0.5O2/Si MFS电容器电特性的影响
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Toprasertpong;M. Takenaka;and S. Takagi;トープラサートポン カシディット,田原建人,福井太一郎,竹中充,高木信一
- 通讯作者:トープラサートポン カシディット,田原建人,福井太一郎,竹中充,高木信一
Advanced CMOS technologies for ultra-low power logic and AI applications
- DOI:10.1109/edtm50988.2021.9420870
- 发表时间:2021-04
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:S. Takagi;Kasidit Toprascrtpong;Kimihiko Kato;K. Sumita;E. Nako;R. Nakane;K. Jo;M. Takenaka
- 通讯作者:S. Takagi;Kasidit Toprascrtpong;Kimihiko Kato;K. Sumita;E. Nako;R. Nakane;K. Jo;M. Takenaka
Si強誘電体FETにおける強誘電分極・反転層電荷・トラップ電荷のカップリングとメモリ特性への影響
Si铁电FET中铁电极化、反型层电荷和俘获电荷的耦合及其对存储特性的影响
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Heiji Watanabe;Takuji Hosoi;Mikito Nozaki;Hidetoshi Mizobata;Takayoshi Shimura;トープラサートポン カシディット,林ザオヤーン,李宗恩,竹中充,高木信一
- 通讯作者:トープラサートポン カシディット,林ザオヤーン,李宗恩,竹中充,高木信一
Si強誘電体FETにおける強誘電分極に誘起される反転層電荷の振る舞い
Si铁电FET中铁电极化诱导的反型层电荷行为
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Nozaki;D. Terashima;A. Yoshigoe;T. Hosoi;T. Shimura;H. Watanabe;トープラサートポン カシディット,林ザオヤーン,李宗恩,竹中充,高木信一
- 通讯作者:トープラサートポン カシディット,林ザオヤーン,李宗恩,竹中充,高木信一
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Toprasertpong Kasidit其他文献
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