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表面プラズモン共鳴を利用したライブセルイメージング装置の開発と可視光毒性の解明

利用表面等离子体共振开发活细胞成像装置并阐明可见光毒性

基本信息

批准号：
20K04521
负责人：
松山哲也
金额：
$ 2.83万
依托单位：
Osaka Metropolitan University (2022)Osaka Prefecture University (2020-2021)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2020
资助国家：
日本
起止时间：
2020-04-01 至 2024-03-31
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-20K04521/
关键词：
プラズモン共鳴ライブセルイメージング光毒性

项目摘要

本研究では，表面プラズモン共鳴による蛍光増強効果を利用した高感度ライブセルイメージング装置を開発し，レーザー光照射後の生細胞の動態を詳細に観察することにより，光毒性の発生機構を解明することを目指している．令和4年度には，薄膜作成後の加熱によるランダム金属微粒子構造と電子線描画装置を用いたナノディスク周期パターン構造を持つ生細胞培養基板を完成するとともに，ライブセルイメージング装置を用いて，レーザー光毒性の定量的な比較，毒性発生メカニズムの検討を行った．細胞培養基板の作成においては，まず，生体適合性を考慮して金のランダム微粒子構造を持つ細胞培養基板を作成した．初期膜厚，加熱温度を最適化することにより，ガラス基板を変形させることなく観察する蛍光タンパク質の蛍光増強に適したプラズモン特性を持つ細胞培養基板を開発した．さらに金を再蒸着，再加熱することにより金微粒子構造の密度を高め，プラズモン特性を改善できることを見出した．さらに，電子線描画装置を用いてナノディスク周期パターン構造を持つ細胞培養基板の開発を行った．表面金属層を用いたリフトオフ性の改善，ナノディスク構造作成後の熱処理によるプラズモン特性の改善およびディスクサイズ制御によるプラズモン共鳴波長のチューニング特性について明らかにし，細胞培養基板としての最適化を行った．光毒性の定量評価においては，より広い照射強度範囲において，レーザー光照射部への細胞増殖核抗原（PCNA）の集積度評価を行い，24時間細胞生存率との比較を行った．その結果，波長375nm，405nmのレーザー光の照射部には同程度のPCNAの集積が観測されたが，照射後の細胞生存率は375nmレーザー光照射の場合に低くなる結果が得られ，半数致死に至る照射光量の結果も含め，波長375nmと405nmのレーザー光照射では光毒性の発生機構，修復機構が異なる可能性を示した．

In this study, the results showed that the light intensity was enhanced by the use of a high sensitivity device. After exposure to light, the cell dynamics was monitored. The phototoxicity mechanism was used to understand the target index of the disease. After the thin film is made, the metal microparticles are used to build the electronic drawing device, and the cell culture substrate is used to complete the electron microscope. after the thin film is made, the metal micro-particles are used to build the electronic drawing device, and the cell culture substrate is used to complete the thin film production. The toxicity of the cell culture substrate is high. The cell culture substrate is made into a cell culture substrate, and the microparticles are used to make the cell culture substrate. The initial thickness of the film is thickened, and the temperature is increased. The structure of the substrate, the temperature, the temperature, The electronic drawing device is operated on by using the cell culture substrate. The surface metal is used to improve the mechanical properties of the cell. After the equipment is made, the characteristic of the cycle is improved. The characteristic of the wave length is improved. The cell culture substrate was optimized for cell culture. The phototoxicity, intensity range, PCNA concentration and 24-hour survival rate of cell culture substrate were measured. The results showed that the wavelength was 375nm, 405nm, 405nm, the same degree as that of PCNA. After irradiation, the cell survival rate of 375nm radiation radiation combined with the results of low temperature radiation showed no effect, and the 50% lethal response to the radiation dose test was negative. The wavelength of 375nm radiation 405nm radiation radiation showed that the possibility of phototoxicity test was significant.