GaN transited having 3-dimensional channels with various operation modes using selectively grown Fin structures
使用选择性生长的鳍结构,GaN 转变为具有各种操作模式的 3 维沟道
基本信息
- 批准号:19H02192
- 负责人:
- 金额:$ 10.82万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2019
- 资助国家:日本
- 起止时间:2019-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
横型GaN系FinFETにおける異なるチャネル伝導形態の比較検討
横向GaN基FinFET不同沟道传导形式的比较研究
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:久恒 悠介;星井 拓也;角嶋 邦之;若林 整;筒井 一生
- 通讯作者:筒井 一生
Evaluation of Interfacial Charges at GaN/AlGaN Interfaces Grown by MOVPE using Triethylgallium
使用三乙基镓通过 MOVPE 生长的 GaN/AlGaN 界面处的界面电荷评估
- DOI:
- 发表时间:2019
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Takuya Hoshii;Hiromasa Okita;Taihei Matsuhashi;Indraneel Sanyal;Yu-Chih Chen;Ying-Hao Ju;Akira Nakajima;Kuniyuki Kakushima;Hitoshi Wakabayashi;Jen-Inn Chyi;and Kazuo Tsutsui
- 通讯作者:and Kazuo Tsutsui
選択成長法を用いたGaN FinFETの作製:リーク電流抑制の改良
使用选择性生长方法制造 GaN FinFET:改善漏电流抑制
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高山 研;太田 貴士;佐々木 満孝;向井 勇人;濱田 拓也;高橋 言雄;井出 利英;清水 三聡;星井 拓也;角嶋 邦之;若林 整;筒井 一生
- 通讯作者:筒井 一生
横型GaN FinFETの構造最適化についての検討
横向GaN FinFET结构优化研究
- DOI:
- 发表时间:2020
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:久恒 悠介;金 相佑;星井 拓也;角嶋 邦之;若林 整;筒井 一生
- 通讯作者:筒井 一生
選択成長法を用いたGaN 系FinFET
采用选择性生长方法的基于 GaN 的 FinFET
- DOI:
- 发表时间:2021
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:筒井一生,濱田拓也,高山 研,金 相佑,星井拓也,角嶋邦之,若林 整,高橋言緒,井手利英,清水三聡
- 通讯作者:筒井一生,濱田拓也,高山 研,金 相佑,星井拓也,角嶋邦之,若林 整,高橋言緒,井手利英,清水三聡
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Tsutsui Kazuo其他文献
Individual Atomic Imaging of Multiple Dopant Sites in As-Doped Si Using Spectro-Photoelectron Holography
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- 影响因子:0
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沖本将崇,末岡裕一郎,石谷槙彦,大須賀公一
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