GaN transited having 3-dimensional channels with various operation modes using selectively grown Fin structures

使用选择性生长的鳍结构,GaN 转变为具有各种操作模式的 3 维沟道

基本信息

  • 批准号:
    19H02192
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.82万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2019
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2019-04-01 至 2023-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
横型GaN系FinFETにおける異なるチャネル伝導形態の比較検討
横向GaN基FinFET不同沟道传导形式的比较研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    久恒 悠介;星井 拓也;角嶋 邦之;若林 整;筒井 一生
  • 通讯作者:
    筒井 一生
Evaluation of Interfacial Charges at GaN/AlGaN Interfaces Grown by MOVPE using Triethylgallium
使用三乙基镓通过 MOVPE 生长的 GaN/AlGaN 界面处的界面电荷评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Takuya Hoshii;Hiromasa Okita;Taihei Matsuhashi;Indraneel Sanyal;Yu-Chih Chen;Ying-Hao Ju;Akira Nakajima;Kuniyuki Kakushima;Hitoshi Wakabayashi;Jen-Inn Chyi;and Kazuo Tsutsui
  • 通讯作者:
    and Kazuo Tsutsui
選択成長法を用いたGaN FinFETの作製:リーク電流抑制の改良
使用选择性生长方法制造 GaN FinFET:改善漏电流抑制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高山 研;太田 貴士;佐々木 満孝;向井 勇人;濱田 拓也;高橋 言雄;井出 利英;清水 三聡;星井 拓也;角嶋 邦之;若林 整;筒井 一生
  • 通讯作者:
    筒井 一生
横型GaN FinFETの構造最適化についての検討
横向GaN FinFET结构优化研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    久恒 悠介;金 相佑;星井 拓也;角嶋 邦之;若林 整;筒井 一生
  • 通讯作者:
    筒井 一生
選択成長法を用いたGaN 系FinFET
采用选择性生长方法的基于 GaN 的 FinFET
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    筒井一生,濱田拓也,高山 研,金 相佑,星井拓也,角嶋邦之,若林 整,高橋言緒,井手利英,清水三聡
  • 通讯作者:
    筒井一生,濱田拓也,高山 研,金 相佑,星井拓也,角嶋邦之,若林 整,高橋言緒,井手利英,清水三聡
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Tsutsui Kazuo其他文献

Individual Atomic Imaging of Multiple Dopant Sites in As-Doped Si Using Spectro-Photoelectron Holography
使用光谱光电子全息术对掺杂硅中的多个掺杂位点进行单独原子成像
  • DOI:
    10.1021/acs.nanolett.7b03467
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    10.8
  • 作者:
    Tsutsui Kazuo;Matsushita Tomohiro;Natori Kotaro;Muro Takayuki;Morikawa Yoshitada;Hoshii Takuya;Kakushima Kuniyuki;Wakabayashi Hitoshi;Hayashi Kouichi;Matsui Fumihiko;Kinoshita Toyohiko
  • 通讯作者:
    Kinoshita Toyohiko
Experimental demonstration of high-gain CMOS inverter operation at low V <sub> dd </sub> down to 0.5 V consisting of WSe<sub>2</sub> n/p FETs
由 WSe<sub>2</sub> n/p FET 组成的高增益 CMOS 逆变器在低至 0.5V 的低 V <sub> dd </sub> 下运行的实验演示
  • DOI:
    10.35848/1347-4065/ac3a8e
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Kawanago Takamasa;Matsuzaki Takahiro;Kajikawa Ryosuke;Muneta Iriya;Hoshii Takuya;Kakushima Kuniyuki;Tsutsui Kazuo;Wakabayashi Hitoshi
  • 通讯作者:
    Wakabayashi Hitoshi
環境に応じたターゲット探索行動の機械学習的アプローチ
根据环境目标搜索行为的机器学习方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shirokura Takanori;Muneta Iriya;Kakushima Kuniyuki;Tsutsui Kazuo;Wakabayashi Hitoshi;沖本将崇,末岡裕一郎,石谷槙彦,大須賀公一
  • 通讯作者:
    沖本将崇,末岡裕一郎,石谷槙彦,大須賀公一
High Temperature Annealing with MIPS Structure for Improving Interfacial Property at La-silicate/Si Interface and Achieving Scaled EOT
利用 MIPS 结构进行高温退火,改善硅酸铝 / 硅界面的界面性能并实现规模化 EOT
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kawanago Takamasa;Kakushima Kuniyuki;A. Parhat;Tsutsui Kazuo;Nishiyama Akira;S. Nobuyuki;Natori Kenji;Hattori Takeo;Iwai Hiroshi
  • 通讯作者:
    Iwai Hiroshi

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  • 通讯作者:
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GaN Transistors with Three-dimensional Channel Fabricated by Using Selective Area Growth
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    2015
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    $ 10.82万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)

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パワーデバイス応用に向けたGaNの点欠陥制御および絶縁膜界面制御の第一原理計算
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    2024
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    $ 10.82万
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  • 批准号:
    24KJ0142
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    2024
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    $ 10.82万
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    2023
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  • 批准号:
    23H01464
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 10.82万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
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  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 10.82万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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  • 批准号:
    21K04172
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 10.82万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
高性能GaN系素子作製に向けたハライド気相成長技術の確立
建立用于制造高性能GaN基器件的卤化物气相生长技术
  • 批准号:
    20J13885
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 10.82万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了