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Study on Properties of Quantum Heterostructures by Using High Quality alpha-type Gallium Oxide Thin Films
利用高质量α型氧化镓薄膜研究量子异质结构特性
基本信息
- 批准号：18K04958
- 负责人：
- 金额：$ 2.83万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2021-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（19）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
ミストCVD法によるα型AlGaO混晶組成制御とAl原子の再脱離
雾气CVD法α型AlGaO混晶成分控制及Al原子的再脱附
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：H. Ogawa;T. Shibuya;Y. Moriai;D. Satoh;H. Ikeura-Sekiguchi;E. Terasawa; M. Tanaka;R. Kuroda;太田茉莉香，田中一郎，宇野和行
- 通讯作者：太田茉莉香，田中一郎，宇野和行
塩化物系ガリウム希薄水溶液によるa型酸化ガリウム薄膜のミストCVD成長
使用氯化镓稀水溶液雾气CVD生长a型氧化镓薄膜
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：松本一寿;中村 幸;田中 一郎;宇野和行
- 通讯作者：宇野和行
Growth Control of α-Ga2O3 Thin Films using Chloride-Based Gallium Source Solutions in Mist Chemical Vapor Deposition
在雾化学气相沉积中使用氯化镓源溶液控制 α-Ga2O3 薄膜的生长
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Kazuyuki Uno;Kazutoshi Matsumoto;and Ichiro Tanaka
- 通讯作者：and Ichiro Tanaka
Mist CVD法を用いたα-(AlGa)2O3混晶成長におけるアセチルアセトナート錯化の影響
乙酰丙酮络合对雾化 CVD 法生长 α-(AlGa)2O3 混晶的影响
- DOI：
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Yokoyama;N. Hirata;H. Tsunoyama;T. Eguchi;Y. Negishi;A. Nakajima;Hiroyuki Odagawa;太田茉莉香，宇野和行，田中一郎
- 通讯作者：太田茉莉香，宇野和行，田中一郎
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- 影响因子：0
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宇野和行，實野孝久
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