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Development of graphite intercalation compound integration technology on insulating substrate and its device applications.

Development of graphite intercalation compound integration technology on insulating substrate and its device applications.
绝缘基材石墨插层复合集成技术及其器件应用研究进展
批准号：
16K14223
负责人：
Murakami Katsuhisa
金额：
$2.41万
依托单位：
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-16K14223/
关键词：
グラファイト化学気相成長黒鉛層間化合物平面型電子放出デバイス

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Improvement of Electron Emission Efficiency of Graphene-Oxide-Semiconductor Planar-Type Electron Sources for Nanosatellite Neutralizers
纳米卫星中和器用氧化石墨烯半导体平面型电子源电子发射效率的提高
DOI： --
发表时间： 2018
期刊：
影响因子： --
作者： [Ryo Furuya, Katsuhisa Murakami, Masayoshi Nagao, and Yoshinori Takao]
通讯作者： and Yoshinori Takao
Development of ultrahigh efficiency planer-type electron emission devices using a stacked structure of atomic layer materials
Direct synthesis of graphene on an insulator substrate by chemical vapor deposition using metal vapor catalysts and development of high efficiency MOS type electron emission devices
Development of conductive scanning probe microscopy system for highly sensitive current-voltage measurement at nanoscale
  • 批准号：
    25630168
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 资助金额：
    $2.58万
  • 财政年份：
    2013
  • 负责人：
    Murakami Katsuhisa
  • 依托单位：
    University of Tsukuba
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