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Formation process of solar grade silicon by atomic hydrogen reduction of quartz sand

Formation process of solar grade silicon by atomic hydrogen reduction of quartz sand
石英砂原子氢还原制备太阳能级硅的工艺
批准号:
24656103
负责人:
YASUTAKE Kiyoshi
金额:
$2.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2015-03-31

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高圧マイクロ波水素プラズマ中の原子状水素密度―電力バランスカロリメトリによる評価―
高压微波氢等离子体中的原子氢密度 - 通过功率平衡量热法评估 -
DOI: --
发表时间: 2014
期刊:
影响因子: --
作者: [内城千翔, 鮑力民,剱持潔, 安武潔,山田高寛,垣内弘章,大参宏昌, 足立昂拓,首藤光利,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 山田高寛,平野達也,山田浩輔,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 足立昂拓,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔]
通讯作者: 足立昂拓,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔
高圧マイクロ波水素プラズマ中の原子状水素密度 -アクチノメトリによる相対密度変化の検討-
高压微波氢等离子体中的原子氢密度 - 通过光化测定法检查相对密度变化 -
DOI: --
发表时间: 2014
期刊:
影响因子: --
作者: [内城千翔, 鮑力民,剱持潔, 安武潔,山田高寛,垣内弘章,大参宏昌, 足立昂拓,首藤光利,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 山田高寛,平野達也,山田浩輔,大参宏昌,垣内弘章,安武潔]
通讯作者: 山田高寛,平野達也,山田浩輔,大参宏昌,垣内弘章,安武潔
DOI: --
发表时间: 2015
期刊:
影响因子: --
作者: [内城千翔, 鮑力民,剱持潔, 安武潔,山田高寛,垣内弘章,大参宏昌, 足立昂拓,首藤光利,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔]
通讯作者: 足立昂拓,首藤光利,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔
高圧マイクロ波水素プラズマによるシリコン高速エッチングにおけるプラズマ中でのシラン分解
使用高压微波氢等离子体进行高速硅蚀刻过程中等离子体中的硅烷分解
DOI: --
发表时间: 2013
期刊:
影响因子: --
作者: [内城千翔, 鮑力民,剱持潔, 安武潔,山田高寛,垣内弘章,大参宏昌, 足立昂拓,首藤光利,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 山田高寛,平野達也,山田浩輔,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 足立昂拓,山田高寛,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 山田高寛,足立昴拓,山田浩輔,大参宏昌,垣内弘章,安武潔, 山田浩輔,山田高寛,足立昂拓,大参宏昌,垣内弘章,安武潔]
通讯作者: 山田浩輔,山田高寛,足立昂拓,大参宏昌,垣内弘章,安武潔
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    Development and application of totally low-temperature semiconductor process using atmospheric-pressure plasma
    • 批准号:
      19206018
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
    • 资助金额:
      $21.88万
    • 财政年份:
      2007
    • 负责人:
      YASUTAKE Kiyoshi
    • 依托单位:
    Fabrication of Large-Grained Polycrystalline Si Thin Films by Controlling Nucleation Sites on Glass Substrates
    • 批准号:
      16360070
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $6.66万
    • 财政年份:
      2004
    • 负责人:
      YASUTAKE Kiyoshi
    • 依托单位:
    Formation of Monochromatic Atomic Beam for Atom interferometer
    • 批准号:
      11450059
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $9.28万
    • 财政年份:
      1999
    • 负责人:
      YASUTAKE Kiyoshi
    • 依托单位:
    Development of Anisotropic Dry Etching Process Using Laser Cooling Method
    • 批准号:
      09555046
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $4.99万
    • 财政年份:
      1997
    • 负责人:
      YASUTAKE Kiyoshi
    • 依托单位:
    海外基金