Formation process of solar grade silicon by atomic hydrogen reduction of quartz sand

石英砂原子氢还原制备太阳能级硅的工艺

• 批准号: 24656103
• 负责人: YASUTAKE Kiyoshi
• 金额: $ 2.5万
• 依托单位: Osaka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-24656103/
• 关键词: シリコン; 水素還元; 二酸化ケイ素; プラズマエッチング; 高圧力プラズマ; SiO2; 珪砂; 太陽電池級Si

项目成果

高圧マイクロ波水素プラズマ中の原子状水素密度―電力バランスカロリメトリによる評価―

高压微波氢等离子体中的原子氢密度 - 通过功率平衡量热法评估 -

• 发表时间: 2014
• 作者: 内城千翔;鮑力民,剱持潔;安武潔，山田高寛，垣内弘章，大参宏昌;足立昂拓，首藤光利，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;山田高寛，平野達也，山田浩輔，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;足立昂拓，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔
• 通讯作者: 足立昂拓，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔

高圧マイクロ波水素プラズマ中の原子状水素密度 －アクチノメトリによる相対密度変化の検討－

高压微波氢等离子体中的原子氢密度 - 通过光化测定法检查相对密度变化 -

• 发表时间: 2014
• 作者: 内城千翔;鮑力民,剱持潔;安武潔，山田高寛，垣内弘章，大参宏昌;足立昂拓，首藤光利，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;山田高寛，平野達也，山田浩輔，大参宏昌，垣内弘章，安武潔
• 通讯作者: 山田高寛，平野達也，山田浩輔，大参宏昌，垣内弘章，安武潔

シミュレーションによる挟ギャップマイクロ波プラズマの解析

窄隙微波等离子体的模拟分析

• 发表时间: 2015
• 作者: 内城千翔;鮑力民,剱持潔;安武潔，山田高寛，垣内弘章，大参宏昌;足立昂拓，首藤光利，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔
• 通讯作者: 足立昂拓，首藤光利，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔

高圧マイクロ波水素プラズマによるシリコン高速エッチングにおけるプラズマ中でのシラン分解

使用高压微波氢等离子体进行高速硅蚀刻过程中等离子体中的硅烷分解

• 发表时间: 2013
• 作者: 内城千翔;鮑力民,剱持潔;安武潔，山田高寛，垣内弘章，大参宏昌;足立昂拓，首藤光利，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;山田高寛，平野達也，山田浩輔，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;足立昂拓，山田高寛，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;山田高寛，足立昴拓，山田浩輔，大参宏昌，垣内弘章，安武潔;山田浩輔，山田高寛，足立昂拓，大参宏昌，垣内弘章，安武潔
• 通讯作者: 山田浩輔，山田高寛，足立昂拓，大参宏昌，垣内弘章，安武潔

高圧力マイクロ波水素プラズマ中のH密度評価

高压微波氢等离子体中H密度的评估

• 发表时间: 2015
• 作者: 内城千翔;鮑力民,剱持潔;安武潔，山田高寛，垣内弘章，大参宏昌
• 通讯作者: 安武潔，山田高寛，垣内弘章，大参宏昌