Dopant-atom-controlled tunnel diodes using Si nano-pn junctions

使用硅纳米 pn 结的掺杂原子控制隧道二极管

基本信息

  • 批准号:
    25630144
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.58万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2015-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(74)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Single-dopant Atom Devices for The Future of Nanoelectronics
纳米电子学未来的单掺杂原子器件
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Michiharu Tabe;Daniel Moraru;Earfan Hamid;Takeshi Mizuno
  • 通讯作者:
    Takeshi Mizuno
静岡大学 電子工学研究所 田部道晴研究室
静冈大学电子研究所田部道晴实验室
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
KPFM observation of donors in transistor channels doped with different concentrations
不同浓度掺杂晶体管沟道中施主的KPFM观察
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Krzysztof Tyszka;Daniel Moraru;Takeshi Mizuno;Ryszard Jablonski;Michiharu Tabe
  • 通讯作者:
    Michiharu Tabe
Impact of Doping Concentration Regimes on Low-Temperature Tunneling in Nanoscale SOI-FETs
掺杂浓度制度对纳米级 SOI-FET 低温隧道效应的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Daniel Moraru;Yuuki Takasu;Takahiro Tsutaya;Arup Samanta;Le The Anh;Muruganathan Manoharan;Takeshi Mizuno;Hiroshi Mizuta;Michiharu Tabe
  • 通讯作者:
    Michiharu Tabe
Experimental and ab initio study of donor state deepening in nanoscale SOI-MOSFETs
纳米级 SOI-MOSFET 施主态加深的实验和从头开始研究
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Toward room temperature operation of Si single-dopant devices by P and B codoping techniques
通过 P 和 B 共掺杂技术实现 Si 单掺杂器件的室温运行
  • 批准号:
    22656082
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Si single-electron transfer devices using potential fluctuation by a few dopants
利用少量掺杂剂引起的电势波动的硅单电子转移器件
  • 批准号:
    20246060
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Nanoscale-multiple-junctions : Transport control and development of new functions
纳米级多结:传输控制和新功能的开发
  • 批准号:
    18063010
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
Silicon single-electron devices : Time-space control of transport and development of new functions
硅单电子器件:传输的时空控制和新功能的开发
  • 批准号:
    16106006
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
Development of thermally-stable structures of thin SOI active layers
薄 SOI 有源层热稳定结构的开发
  • 批准号:
    12555087
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Fabrication and electron transport properties of two-dimensionally-coupled dots of single crystalline Si
单晶硅二维耦合点的制备及其电子传输特性
  • 批准号:
    12450125
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
ULTRA-SMALL LOCOS PROCESS FOR Si QUANTUM DOT FORMATION
用于硅量子点形成的超小型 LOCOS 工艺
  • 批准号:
    07455137
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 2.58万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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