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Plasmaprozesssystem zur Abscheidung und zum Trockenätzen von dünnen Schichten

用于薄层沉积和干法蚀刻的等离子处理系统

基本信息

批准号：
409605439
负责人：
金额：
--
依托单位：
Ludwig-Maximilians-Universität München (LMU)
依托单位国家：
德国
项目类别：
Major Research Instrumentation
财政年份：
2018
资助国家：
德国
起止时间：
2017-12-31 至无数据
项目状态：
未结题

来源：
https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/409605439?language=en
关键词：
Plasmaprozesssystem zur Abscheidung und zum

项目摘要

Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich. Dazu ist es in einem ersten Schritt unbedingt erforderlich, dünne Schichten aus Dielektrika und Halbleitern mit hoher Qualität abscheiden zu können. Nach erfolgter Strukturierung eines auf die Schicht aufgebrachten Polymerfilms mittels Elektronenstrahllithographie muss diese Strukturierung dann durch einen trockenen Ätzprozess in die Schicht selbst übertragen werden. Das in diesem Antrag beschriebene kombinierte Plasmasystem ermöglicht dies mit höchster Qualität, und wird in einem von der Gruppe geleiteten 170 Quadratmeter umfassenden Reinraum in dem neuen Nanoinstitut München der LMU untergebracht werden. Die Notwendigkeit der Anschaffung ergibt sich zudem insbesondere durch den Umzug meiner Forschergruppe vom Imperial College London an die LMU, was einen Neuaufbau unserer Infrastruktur zur Nanofabrikation mit sich bringt. Die hier beantragte Gerätekombination stellt des Weiteren einen Teil der mir zugesagten Erstaustattung meiner Labore in dem neuen Institut dar. Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Nanophotonik mit strukturierten Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Plasmaprozesssystems nicht möglich.

Unsere Forschung im Bereich der Nanophotonik und der Plasmonik beruht auf der Nanostrukturierung von dünnen Schichten und der Herstellung von einzelnen Strukturen mit Abmessungen im Nanometerbereich.大足是一个最早的滑雪场，在Dielektrika和Halbleitern上有着更高的质量。在Schicht aufgebrachten Polymerfilms mittels Elektronenstrahlithographie must diese Strukturierung dann durch einen trockenen autzess in the Schicht selbst übertragen韦尔登.之后，在Schicht aufgebrachten Polymerfilms mittels Elektronenstrahlithographie must diese Strukturierung durch durch einen trockenen autzess in the Schicht selbst übertragen. Antrag公司生产的等离子体质谱仪质量最高，在LMU韦尔登新纳米研究所的一个170平方米的真空室中工作。通过我来自伦敦帝国理工学院伦敦和伦敦大学的研究小组的研究，我们发现了纳米制造的新结构。这一次，我在新的研究所进行了一项研究。Unsere gesamte Forschung auf dem Gebiet der Nanophotonik mit strukturierten Dielektrika ist ohne den Aufbau dieses Plasmaprozesssystems nicht möglich.