课题基金 / 基金详情

低速イオンとファンデルワールス薄膜固体の衝突反応に関する基礎的研究

低速イオンとファンデルワールス薄膜固体の衝突反応に関する基礎的研究
慢离子与范德华薄膜固体碰撞反应的基础研究
批准号:
09740422
负责人:
佐藤 哲也
金额:
$1.28万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
财政年份:
1997
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1997 至 1998

项目摘要

项目成果

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衝突エネルギーが数100eV以下の低エネルギー領域における低速イオンと固体表面の相互作用に関して、総合的かつ基礎的な知見を得るための方法論の開発を行った。7.6Kに冷却した清浄なSi基坂上に、0.1〜数分子層で制御された原子・分子薄膜を真空蒸着法で形成し、400eVのHe^+イオンで衝撃した。二次イオン強度の膜厚依存性、衝突エネルギー依存性などを検討し、1) スパイク領域における電荷移行反応と二次イオン収率・脱離収率の相関、2) エネルギー緩和過程と薄膜固体のV_0値(固体の電子親和力)の相関、などに関する知見を得た。薄膜固体としては、希ガスRg(Ar,Kr,Xe)、窒素、酸素、および一酸化炭素などの単一種薄膜や、これらの積層膜 および任意の割合で混合した混合薄膜を用いた。「垂直イオン入射、垂直イオン引き出し法」が可能な、飛行時間型質量分析計で質量分析した。希ガス薄膜固体中のホールやエキシトンの拡散長は、Ar<Kr<Xeの順に長い傾向があり、二次イオン生成において、多価イオン(Rg^<2+>)や励起種(Rg^*、Rg^<+*>)の寄与が大きい事が分かった。また、負のV_0値を持つ酸素薄膜の方が窒素薄膜(V_0>0)に比べ二次イオンの生成のスパイク領域が大きいことが分かった。
期刊论文(1)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Tetsuya Sato: "Secondary Ions Produced by Low-energy Impact of He^+ and Ne^+ ions on ran der Waals Thin Films" Rapid Communications in Mass spectrometry. 11. 1139-1143 (1997)
Tetsuya Sato:“He^ 和 Ne^ 离子对兰德瓦尔斯薄膜的低能冲击产生的二次离子”质谱快速通讯。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
差分プライバシーの検証の基盤となる形式化の構築
  • 批准号:
    24K14893
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $2.91万
  • 财政年份:
    2024
  • 负责人:
    佐藤 哲也
  • 依托单位:
Low-temperature formation of PTFE thin films by electronic excitation of fluorocarbon condensed layers and its application as a surface treatment method.
  • 批准号:
    23K04394
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $2.83万
  • 财政年份:
    2023
  • 负责人:
    佐藤 哲也
  • 依托单位:
固体中の磁気回転効果を用いたスピン力学回転変換機構の理論的研究
  • 批准号:
    23KJ0702
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $0.96万
  • 财政年份:
    2023
  • 负责人:
    佐藤 哲也
  • 依托单位:
Ion Beam Chemistry in the Heaviest Region of the Periodic Table
  • 批准号:
    22K18276
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Pioneering)
  • 资助金额:
    $16.22万
  • 财政年份:
    2022
  • 负责人:
    佐藤 哲也
  • 依托单位:
海外基金