ダイヤモンドなど炭素系薄膜を利用した新規硬度耐久性バイオ基材の開発

使用金刚石等碳基薄膜开发新型坚硬耐用的生物基材料

• 批准号: 14655047
• 负责人: 村上 理一
• 金额: $ 1.66万
• 依托单位: The University of Tokushima
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Exploratory Research
• 财政年份: 2002
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2002 至 2003
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-14655047/
• 关键词: ダイヤンド薄膜; マイクロ波プラズマCVD法; バイオメタリアル; バイオチップ; DNAチップ; ダイアモンド薄膜; プロテインチップ; ZMWCVD; 化学修飾; 薄膜化技術

本年度は、徳島大学にあるマイクロ波プラズマCVD装置およびアークイオンプレーティング装置を使いダイヤモンド薄膜の創製を行った。そして、これらに化学的修飾を施し、酵素を付着させ、耐久性の評価を行った。1)マイクロ波プラズマCVD法を用いて、純チタン基板にダイヤモンドを成長させた。2)平滑な純チタン基板にダイヤモンドを成長させた試験片を用い、化学修飾するための化学処理を行った。ダイヤモンド終端の水素(H)を酸化処理するため硫酸と硝酸の混合液の中で処理を行ってケトン化させ、続いてNaOH処理、HCl処理を行うことによりカルボキシル基(-COOH)とエステルに置換することができたと見られるFT-IR, MiniSIMSにより定性的にカルボキシル基に置換することが確認できた。3)化学処理を施したダイヤモンド薄膜に、カルボジイミドカップリングを用いることにより酵素を付着させることに成功した。4)抗ガン剤や放射線等による化学的・物理的ストレスによるアポトーシス過程において、アポトーシス誘導シグナルとしての特定遺伝子が高速検出できる可能性が示された。

This year, Zhang Yong University has launched a series of research projects on CVD devices. For example, chemical modification, enzyme application, and durability evaluation 1) The CVD method is used in the production of pure silicon substrates. 2)Smooth and pure substrates are prepared by chemical treatment. Acidification treatment of terminal water element (H), sulfuric acid and nitric acid mixture treatment, NaOH treatment, HCl treatment, FT-IR, MiniSIMS, qualitative FT-IR. 3)The chemical process was successful in the application of the enzyme. 4)The possibility of high speed detection of specific molecules in chemical and physical processes such as anti-radiation has been demonstrated.

项目成果

Cheol mun Yim: "Chemical Modification of Diamond Film on Pure Titanium Deposited by MWCVD Method"Asian Pacific Conference for Fracture and Strength 2004. (発表予定). (2004)

Cheol mun Yim：“MWCVD 方法沉积的纯钛上金刚石薄膜的化学改性”2004 年亚太断裂与强度会议。（待提交）。

林徹文, 林祐輔, 高木優次, 米倉大輔, 村上理一: "マイクロ波プラズマCVD法により成膜したダイヤモンド薄膜の化学修飾に関する研究"第52期日本材料学会学術講演会. (発表予定).

Tetsufumi Hayashi、Yusuke Hayashi、Yuji Takagi、Daisuke Yonekura、Riichi Murakami：“微波等离子体CVD法沉积金刚石薄膜的化学改性研究”，日本材料学会第52届学术会议（待发表）。

入江 桂史: "マイクロ波プラズマCVD法により作製したダイヤモンド薄膜の化学修飾"日本材料学会第53期学術講演論文集. (発表予定). (2004)

Katsushi Irie：“微波等离子体CVD法制造的金刚石薄膜的化学改性”日本材料学会第53届学术会议论文集（待发表）。