レーザーアブレーション超微粒子の時間分解レーザープラズマ軟X線分光

激光烧蚀超细颗粒的时间分辨激光等离子体软 X 射线光谱

基本信息

  • 批准号:
    05214202
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.28万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    1993
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1993 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、SiとCのレーザーアブレーション時のその場測定を0nsから120nsの範囲で試みてきた。その結果、この時間領域でおもに生成されているのは、Siに関してはSi原子と+イオンが、またCに関してはC原子と+、-のイオンが主であることが判明した。しかし、そのほかにもSiでは同定できなかったSiクラスターと思われるブロードな吸収線が見られ、一方、Cについても286eV付近にC_2またはC_3と思われる吸収線が観測された。そこで、高圧のHeガスのパルスをアブレーション粒子に吹き付け、超微粒子形成の促進を試み、吸収スペクトルの変化を調べた。その結果、Si表面から距離が1mmまでの領域では、ほとんどスペクトルに変化がみられなかった。即ち、超微粒子に対応した新しい吸収線は現れておらず、また前述のブロードな吸収線の増加も見られなかった。しかし、1、5mm以上離れた場所においては吸収スペクトルの変化が観測された。これは、Si粒子とHe原子の衝突過程でイオンの荷数が変化したものではなく、高圧のプルーム先端に押し集められたHeガスの高圧領域が発生し、その結果、プルームの膨張が押さえられ、Si原子と各Siイオンの空間分布が変化したためと考えられる。これらの結果より、超微粒子の形成は120nsまでの時間領域では起こっていないことが明らかになった。CのレーザーアブレーションとパルスHeガスの吹き付けの実験でも結果は同様である。以上の研究結果より、Heガス吹き付けを伴ったレーザーアブレーション時の超微粒子形成の動的過程を本実験手法で追跡するためには、数100nsから約1msの間の一層遅い時間領域を更に調べる必要があることが判明した。
In this study, we attempt to measure the open field of Si and C in the range of 0ns to 120ns. As a result, the time domain is generated, Si atoms are generated, C atoms are generated, and C atoms are generated. The absorption line is detected at 286eV near C_2 and C_3. In addition, the high pressure He particles can be used to promote the formation of ultra-fine particles, and the absorption of particles can be adjusted. As a result, the Si surface is separated by a distance of 1 mm. That is, ultra-fine particles in the new absorption line will appear, and the above-mentioned absorption line will increase. For example, if the distance is larger than 1 mm or 5mm, the distance between the two sides will be smaller than that between the two sides. In the collision process between Si particles and He atoms, the charge number of Si atoms changes, the high pressure region of He atoms increases, the expansion of Si atoms increases, and the spatial distribution of Si atoms changes. The result is that the formation of ultra-fine particles is 120ns away from the time domain. C. The above results show that the process of ultra-fine particle formation is necessary to trace the time between 100ns and 1ms

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
O.Yoda et al.: "A Laboratory Scale Apparctus for the Time-Resolved X-Ray Absorption Spectroscopy Using Laser Plasma" Jpn.J.Appl.Phys.Suppl.32-2. 255-257 (1993)
O.Yoda 等人:“使用激光等离子体进行时间分辨 X 射线吸收光谱的实验室规模仪器”Jpn.J.Appl.Phys.Suppl.32-2。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Murakami et al.: "Laser-Plasma Soft X-Ray Absorption Spectroscopy of Laser Ablated Si and C Particles" AIP Conf.Proc.288. 375-384 (1994)
K.Murakami 等人:“激光烧蚀硅和碳粒子的激光等离子体软 X 射线吸收光谱”AIP Conf.Proc.288。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
村上浩一: "非平衡ドーピングと半導体中不純物の準安定性" 固体物理. 特集号. 117-122 (1993)
Koichi Murakami:“半导体中杂质的非平衡掺杂和亚稳定性”固体物理学特刊 117-122 (1993)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Murakami et al.: "Shallow Donor States in InP:ESR Induced Overhauser Shift" Materials Science Forum. 117/118. 369-374 (1993)
K.Murakami 等人:“InP 中的浅施主态:ESR 诱导的奥豪瑟转变”材料科学论坛。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
T.Ohyanagi et al.: "Time-and-Space Resolved X-ray Absorption Spectroscopy of Laser Ablated Si Particles" Jpn.J.Appl.Phys.(印刷中). (1994)
T.Ohyanagi 等人:“激光烧蚀硅粒子的时空分辨 X 射线吸收光谱”Jpn.J.Appl.Phys.(出版中)。
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  • 发表时间:
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    0
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  • 通讯作者:
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