レーザーアブレーション超微粒子のレーザープラズマ軟X線分光
激光烧蚀超细颗粒的激光等离子体软 X 射线光谱
基本信息
- 批准号:04230205
- 负责人:
- 金额:$ 1.28万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:1992
- 资助国家:日本
- 起止时间:1992 至 无数据
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
新しく開発したレーザープラズマ軟X線分光法を用いて、レーザーアブレーションでパルス的に生成されたシリコン(Si)及びグラファイト(C)の超微粒子の電子状態と形態を調べた。特に、軟X線が11nsのパルス幅を有することを利用して、レーザーアブレーション後、0〜120nsの時間に於て、11nsの時間分解能で軟X吸収スペクトルの時間変化を測定した。一パル入当りのX線ホトン数がアブレーション粒子の存在する領域で10^<11>個と極めて高いため、単発測定で吸収スペクトルが得られた。Siについては、100eV附近のL吸収端に、Cについては280eV附近のK吸収端に着目して研究を進め、以下に示すような新しい結果が得られた。1.3〜20J/cm^2のレーザーエネルギー密度で、生成されるSiの超微粒子としては、Si原子,Si^<n+>(n=1,2,3,4)イオン,Siクラスター及び液体Siドロプレットが観測された。2.これ等の生成割合はエネルギー密度と時間に著しく依存している。3.本実験で初めて、Si原子及びSi^<n+>(n=1,2,3,4)イオンのL_<II,III>吸収端が実験で求められた。4.Siクラスターはエネルギー密度が大きく、時間遅れが大きい程、即ち、120nsで最も多量に発生していることが判明した。5.Cについてもレーザーエネルギー密度依存性があり、且つ、グラファイトのK吸収端によりエネルギーの低い所に新しい吸収ピーク(281eV)を見出した。6.Si,C共にターゲット表面から軟X線ビームのプローブ点を変化させ、空間分解測定が可能であることを示した。今後は、Heガスをパルス的に吹きつけ、クラスター化を促進させて、実験を進め、超微粒子の生成機構を明らかにする予定である。
The electronic state and morphology of ultra-fine particles produced by the new method of soft X-ray spectroscopy are modulated by the use of chemical, optical and chemical methods. In particular, the soft X-ray absorption spectrum amplitude of 11 ns can be measured by using the time decomposition of 0 ~ 120ns after the absorption spectrum. The number of X-ray particles in the sample was 10 times higher than that in the sample<11>. Si, L, C near 100eV, K near 280eV, respectively. 1.3 ~ 20J/cm^2 of Si particles,Si atoms,Si^<n+>(n=1,2,3,4) atoms, Si particles and liquid Si particles are measured. 2. The density and time of the generation and combination depend on each other. 3. In this paper, the absorption ends of Si atoms and Si^<n+>(n=1,2,3,4) are studied. 4. The density of silicon dioxide is large, and the time is large, that is, 120ns. 5. C. The density dependence of the absorption spectrum at K end of the spectrum is shown in the new absorption spectrum (281eV). 6. Si, C total surface area: soft X-ray surface area: change, space decomposition measurement: possible. In the future, He will continue to promote the development of ultra-fine particles, and the mechanism of ultra-fine particles will be clearly defined.
项目成果
期刊论文数量(9)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
K.Murakami(Invited): "Dynamics and Control of Laser ablation of Oxede Superconductors and Semiconcluctors" Proc.Workshop ¨Dynamic Response of Materials to Pulsed Heating¨. (1993)
K.Murakami(特邀):“氧化超导体和半导体激光烧蚀的动力学和控制”Proc.Workshop“材料对脉冲加热的动态响应”(1993)。
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- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
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- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
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- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:
- 通讯作者:
K.Murakami,T.Ohyanagi,K.Hara,K.Masuda: "Shallow Donor States in InP-Electron-Spin-Resonance Indirced Overhauser Shift-" Materials Science Forum. 117-118. 369-371 (1993)
K.Murakami、T.Ohyanagi、K.Hara、K.Masuda:“InP 电子自旋共振诱导的奥豪瑟位移中的浅施主态”材料科学论坛。
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- 作者:
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O.Yoda,A.Miyashita,K.Murakami,T.Ohyanagi,S.Aoki,N.Yamaguchi: "A haboratory Scale Apparatus for the Time-Resolved X-ray aksorption Spectroscopy using haser Plasmas" Proc.7th Intern-Cont,X-ray absorption Fine Structures. (1993)
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