複合プラズマの生成と反応の制御
複合プラズマの生成と反応の制御
批准号:
02214107
负责人:
板谷 良平
金额:
$18.3万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
本研究はプラズマ内の複雑な反応を単純な反応に分離して観測、制御するために、また今後の発展が予想される多元系物質の作成とその物性の制御を可能にするために、必要となるプラズマの時定数並びにプラズマの有効長の概念を確立すること、および、それらを活用するための新しいプロセス即ち、パルスプロセス、複合プラズマプロセス等の基礎を確立することを目的としており、従来にない精密にプラズマを制御する方式の確立を目指している。本年度の成果は以下の通りである。1.ECRプラズマについて、共鳴領域の形状制御とプラズマの密度の空間分布との関係を調べるために、電磁石と永久磁石の組合わせによる円筒状及び平面状の薄膜プラズマ、及び永久磁石のみによる多重リングカスプ磁場を用いた大直径高密度プラズマの生成条件を明らかにした。さらに、電離を含んだ2次元モデルを構築し、マイクロ波の伝搬特性が実験と一致することを示した。(板谷、八坂、久保)。2.パルスプロセスの基礎を固めるために、原料ガスをパルス的に導入したあとの解離や排気による時間変化の特性を定量化する手法を定めた。さらにこれを用いて、種々の複雑な反応を時定数の概念により整理し、ガスの解離特性の測定のみならず、現用のプラズマ反応装置の診断にも有効であることを示した。(板谷、八坂、久保)。3.原料ガスの電子による解離特性の違いを克服するために、シラン系のガスは高周波により、メタン系のガスはマイクロ波により別々に解離して、Si_XC_<1ーX>をXの広い範囲にわたり自由に作成する方法について、組成変化の広い範囲にわたり有効であることを実証した(松波、冬木、吉本)。4.小形ホロ-陰極プラズマ源を束ねて、大直径または多元系物質作成に適したプラズマリアクタ-とする開発を目的とし、動作パラメタと得られるプラズマとの関係を調べた。(真瀬、池畑)。
期刊论文(14)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
R.Itatani: "The generation of laminar plasma and the control of reactive processes" Proceedings of the 8th symposium on Plasma Processing. 121-124 (1991)
R.Itatani:“层流等离子体的产生和反应过程的控制”第八届等离子体处理研讨会论文集。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
M.Yoshimoto: "Deposition of hydrogenated amorphous silicon carbon alloy by hybridーplasma CVD" Proceedings of the 8th symposium on Plasma Processing. 373-376 (1991)
M. Yoshimoto:“混合等离子体 CVD 沉积氢化非晶硅碳合金”第八届等离子体加工研讨会论文集 373-376 (1991)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
R.Itatani: "Dynamic analysis of reactive processes by using the gas puffing method" Proceedings of the 8th symposium on Plasma Processing. 125-128 (1991)
R.Itatani:“使用气体吹胀法对反应过程进行动态分析”第八届等离子体处理研讨会论文集。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
R.Itatani: "XPS studies on aーSiC films prepared by the gas puffing method" Proceedings of the 8th symposium on Plasma Processing. 381-384 (1991)
R.Itatani:“气体膨化法制备的 a-SiC 薄膜的 XPS 研究”第八届等离子体加工研讨会论文集 381-384(1991)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Y.Yasaka: "Analysis of elctromagnetic field profile in ECR plasma" Proceedings of the 8th symposium on Plasma Processing. 49-52 (1991)
Y.Yasaka:“ECR 等离子体中的电磁场分布分析”第八届等离子体处理研讨会论文集。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 7 条
プロセス用プラズマのシース
-
批准号:03302025
-
项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
-
资助金额:$10.11万
-
财政年份:1991
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御(とりまとめ)
-
批准号:03299112
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$1.86万
-
财政年份:1991
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:02214106
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$7.04万
-
财政年份:1990
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:01632008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$3.2万
-
财政年份:1989
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
-
批准号:01632007
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$7.3万
-
财政年份:1989
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:63632007
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$2.56万
-
财政年份:1988
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
-
批准号:63632008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$6.4万
-
财政年份:1988
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:62307013
-
项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
-
资助金额:$0.0万
-
财政年份:1987
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
新型大電流冷陰極の開発
-
批准号:59850064
-
项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
-
资助金额:$3.33万
-
财政年份:1984
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の高効率化
-
批准号:58050028
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1983
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
可変色放電表示装置の高輝度化
-
批准号:57850113
-
项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
-
资助金额:$3.52万
-
财政年份:1982
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の開発
-
批准号:57050023
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1982
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の開発
-
批准号:56050022
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$4.8万
-
财政年份:1981
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
高周波回転電磁界による軸対称ミラープラズマの閉じ込め
-
批准号:56460182
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
-
资助金额:$5.89万
-
财政年份:1981
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
可変色放電ディスプレイパネルの開発
-
批准号:X00120----585008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
-
资助金额:$3.07万
-
财政年份:1980
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
セシウム-重水素混合放電による負イオン源の開発
-
批准号:X00025----504025
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$3.84万
-
财政年份:1980
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
高周波回転電磁界によるプラズマの加熱と封じ込め
-
批准号:X00080----446187
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
-
资助金额:$5.18万
-
财政年份:1979
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ中の絶縁破壊現象
-
批准号:X00060----430635
-
项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
-
资助金额:$1.09万
-
财政年份:1979
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
定常高イオン温度プラズマ源の開発と中性子源への応用
-
批准号:X00040----121008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
-
资助金额:$1.98万
-
财政年份:1976
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
定常イオン温度プラズマ源の開発
-
批准号:X00090----055304
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$0.64万
-
财政年份:1975
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
海外基金