複合プラズマの生成と反応の制御
複合プラズマの生成と反応の制御
批准号:
01632007
负责人:
板谷 良平
金额:
$7.3万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1989
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1989 至 1990
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
本研究はプラズマ内の複雑な反応を単純な反応に分離して観測、制御するために、また今後の発展が予想される多元系物質の作成とその物性の制御を可能にするために、必要となるプラズマの時定数並びにプラズマの有効長の概念を確立すること、および、それらを活用するための新しいプロセス即ち、パルスプロセス、複合プラズマプロセス等の基礎を確立することを目的としており、従来にない精密にプラズマを制御する方式の確立を目指している。本年度の成果は以下の通りである。1.マイクロ波プラズマにおいても直流放電の場合と同様に、電子温度が制御出来ることを実証する目的で、マイクロ波電流の商用周波入力を双方向サイリスタを用いて、マイクロ波出力をパルス変調することにより、NeーHg放電管の発光色の変化から電子エネルギー分布が制御されていることを確認した(板谷、八坂、久保)。2.水素、Arなどをキャリアガスとするプラズマに、原料ガスをパルス的に導入して解離や生成の時間的変化を観測することにより、プラズマによる反応の時定数即ち反応速度係数の測定が可能であることを示し、解離特性について、実験値をガスの解離断面積と比較して、この方法の有効性を示すと共に、解離係数の未知のガスに対して実際のプラズマで直接に測定できる道を開いた(板谷、八坂、久保)。3.原料ガスの電子による解離特性の違いを克服するために、シラン系のガスは高周波により、メタン系のガスはマイクロ波により別々に解離して、Si_xC_<1ーx>をxの広い範囲にわたり自由に作成する方法について実験を行い、その可能性を実証した(松波、冬木、吉本)。4.小形ホロー陰極プラズマ源を束ねて、大直径または多元系物質作成に敵したプラズマリアクターとする開発を目的とし、とくに補助陽極を追加した場合の特性を調べた(真瀬、池畑)。
期刊论文(12)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
R.Itatani et.al: "The Control of Electron Temperature by Pulse Modulated Microwave" Proc.7th Symp.on Plasma Processing. 1-4 (1990)
R.Itatani 等人:“脉冲调制微波控制电子温度”Proc.7th Symp.on 等离子体处理。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Mase,Tanabe and Ikehata: "Superdense Hollow Cathode Glow Dischrge and Its Application to Ion Sources." Nuclear Instrum.and Methods in Phys.Research. B37/38. 120 (1989)
Mase、Tanabe 和 Ikehata:“超密空心阴极辉光放电及其在离子源中的应用”。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Mase,Tanabe and Ikehata: "Effects of Magnetic Field on DC Magnetron Discharge" Proc.7th Symp.Plasma Procesing. 349-352 (1990)
Mase、Tanabe 和 Ikehata:“磁场对直流磁控管放电的影响”Proc.7th Symp.Plasma Processing。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
R.Itatani et.al: "Plasma Free Window for Microwave." Proc.7th Symp.on Plasma Processing. 81-84 (1990)
R.Itatani 等人:“微波无等离子体窗口”。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
R.Itatani et.al: "A Suggestion of a Dynamic Plasma Reactor Using Gas Puffing and the Investigation of the Reaction Processes" Proc.7th Symp.on Plasma Processing. 309-312 (1990)
R.Itatani 等人:“使用气体吹胀的动态等离子体反应器的建议和反应过程的研究”Proc.7th Symp.on 等离子体处理。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
プロセス用プラズマのシース
-
批准号:03302025
-
项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
-
资助金额:$10.11万
-
财政年份:1991
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御(とりまとめ)
-
批准号:03299112
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$1.86万
-
财政年份:1991
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
-
批准号:02214107
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$18.3万
-
财政年份:1990
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:02214106
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$7.04万
-
财政年份:1990
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:01632008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$3.2万
-
财政年份:1989
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:63632007
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$2.56万
-
财政年份:1988
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
-
批准号:63632008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
-
资助金额:$6.4万
-
财政年份:1988
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
反応性プラズマの制御
-
批准号:62307013
-
项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
-
资助金额:$0.0万
-
财政年份:1987
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
新型大電流冷陰極の開発
-
批准号:59850064
-
项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
-
资助金额:$3.33万
-
财政年份:1984
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の高効率化
-
批准号:58050028
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1983
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
可変色放電表示装置の高輝度化
-
批准号:57850113
-
项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
-
资助金额:$3.52万
-
财政年份:1982
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の開発
-
批准号:57050023
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$1.28万
-
财政年份:1982
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の開発
-
批准号:56050022
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$4.8万
-
财政年份:1981
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
高周波回転電磁界による軸対称ミラープラズマの閉じ込め
-
批准号:56460182
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
-
资助金额:$5.89万
-
财政年份:1981
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
可変色放電ディスプレイパネルの開発
-
批准号:X00120----585008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
-
资助金额:$3.07万
-
财政年份:1980
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
セシウム-重水素混合放電による負イオン源の開発
-
批准号:X00025----504025
-
项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
-
资助金额:$3.84万
-
财政年份:1980
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
高周波回転電磁界によるプラズマの加熱と封じ込め
-
批准号:X00080----446187
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
-
资助金额:$5.18万
-
财政年份:1979
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
プラズマ中の絶縁破壊現象
-
批准号:X00060----430635
-
项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
-
资助金额:$1.09万
-
财政年份:1979
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
定常高イオン温度プラズマ源の開発と中性子源への応用
-
批准号:X00040----121008
-
项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
-
资助金额:$1.98万
-
财政年份:1976
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
定常イオン温度プラズマ源の開発
-
批准号:X00090----055304
-
项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
-
资助金额:$0.64万
-
财政年份:1975
-
负责人:板谷 良平
-
依托单位:
海外基金