反応性プラズマの制御
反応性プラズマの制御
批准号:
02214106
负责人:
板谷 良平
金额:
$7.04万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --
中文摘要
本課題は昭和63年度からスタ-トした重点領域研究「反応性プラズマの制御」の総括班として、当領域の研究の方向付けと促進を図るものである。そこで本年度は、第3年度であることをふまえ、平成2年5月初旬に年度初頭の計画研究班会議を開き、昨年までの研究成果の点検と最終年度の実行計画の調整・確認とを行なった。ついで、今年度公募研究の多い班の最終年度としての方向付けを行なうために、レ-ザ-を用いたプラズマ計測に関係する研究会を7月下旬に、また素過程に関する研究会を9月上旬にそれぞれ開催した。8月上旬から中旬にかけて、米国ヴィスコンシン大学「プラズマ加工工学研究センタ-」より研究者1名を招き、ECRプラズマのプロ-ブ計測、分光学的計測について共同研究を行なうと共に、今後の研究協力について緒端を開いた。8月下旬には、プラズマ発生に関係するグル-プの研究成果中間報告会を京都大学で開催し、計画研究並びに公募研究について研究進行状況の報告を求め、それぞれの課題について研究の方向に関する討論を行なった。11月中旬に表面反応、シミュレ-ションを含めてプラズマの発生制御に係わる総合的討論の場を設け、班にまたがる研究情報の交換を促進すると共に、次年度における研究とりまとめの方法について相談した。平成3年2月27〜29日には今年度の研究成果報告会を開催し、予稿集を用意した。また2月29日に総括班会議を開き、今年度の研究成果の評価を行ない、研究とりまとめの方針について議論した。本年度の成果報告書は、昨年度と同様、上記の予稿集とは別に英文で作成した。
英文摘要
本課題は昭和63年度からスタ-トした重点領域研究「反応性プラズマの制御」の総括班として、当領域の研究の方向付けと促進を図るものである。そこで本年度は、第3年度であることをふまえ、平成2年5月初旬に年度初頭の計画研究班会議を開き、昨年までの研究成果の点検と最終年度の実行計画の調整・確認とを行なった。ついで、今年度公募研究の多い班の最終年度としての方向付けを行なうために、レ-ザ-を用いたプラズマ計測に関係する研究会を7月下旬に、また素過程に関する研究会を9月上旬にそれぞれ開催した。8月上旬から中旬にかけて、米国ヴィスコンシン大学「プラズマ加工工学研究センタ-」より研究者1名を招き、ECRプラズマのプロ-ブ計測、分光学的計測について共同研究を行なうと共に、今後の研究協力について緒端を開いた。8月下旬には、プラズマ発生に関係するグル-プの研究成果中間報告会を京都大学で開催し、計画研究並びに公募研究について研究進行状況の報告を求め、それぞれの課題について研究の方向に関する討論を行なった。11月中旬に表面反応、シミュレ-ションを含めてプラズマの発生制御に係わる総合的討論の場を設け、班にまたがる研究情報の交換を促進すると共に、次年度における研究とりまとめの方法について相談した。平成3年2月27〜29日には今年度の研究成果報告会を開催し、予稿集を用意した。また2月29日に総括班会議を開き、今年度の研究成果の評価を行ない、研究とりまとめの方針について議論した。本年度の成果報告書は、昨年度と同様、上記の予稿集とは別に英文で作成した。
期刊论文(2)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
板谷 良平: "半導体プロセス用プラズマの特性と制御" 応用物理. 59. 912-916 (1990)
Ryohei Itaya:“半导体加工等离子体的特性和控制”应用物理 59. 912-916 (1990)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
プロセス用プラズマのシース
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批准号:03302025
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项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
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资助金额:$10.11万
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财政年份:1991
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
反応性プラズマの制御(とりまとめ)
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批准号:03299112
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.86万
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财政年份:1991
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
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批准号:02214107
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$18.3万
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财政年份:1990
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
反応性プラズマの制御
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批准号:01632008
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$3.2万
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财政年份:1989
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
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批准号:01632007
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$7.3万
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财政年份:1989
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
反応性プラズマの制御
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批准号:63632007
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$2.56万
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财政年份:1988
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
複合プラズマの生成と反応の制御
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批准号:63632008
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$6.4万
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财政年份:1988
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
反応性プラズマの制御
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批准号:62307013
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项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
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资助金额:$0.0万
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财政年份:1987
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
新型大電流冷陰極の開発
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批准号:59850064
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$3.33万
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财政年份:1984
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の高効率化
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批准号:58050028
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项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1983
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
可変色放電表示装置の高輝度化
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批准号:57850113
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$3.52万
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财政年份:1982
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の開発
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批准号:57050023
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项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1982
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
プラズマ加熱用負イオン源の開発
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批准号:56050022
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项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
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资助金额:$4.8万
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财政年份:1981
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
高周波回転電磁界による軸対称ミラープラズマの閉じ込め
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批准号:56460182
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$5.89万
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财政年份:1981
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
可変色放電ディスプレイパネルの開発
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批准号:X00120----585008
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项目类别:Grant-in-Aid for Developmental Scientific Research
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资助金额:$3.07万
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财政年份:1980
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
セシウム-重水素混合放電による負イオン源の開発
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批准号:X00025----504025
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项目类别:Grant-in-Aid for Fusion Research
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资助金额:$3.84万
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财政年份:1980
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
高周波回転電磁界によるプラズマの加熱と封じ込め
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批准号:X00080----446187
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$5.18万
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财政年份:1979
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
プラズマ中の絶縁破壊現象
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批准号:X00060----430635
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项目类别:Grant-in-Aid for Co-operative Research (B)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1979
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
定常高イオン温度プラズマ源の開発と中性子源への応用
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批准号:X00040----121008
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项目类别:Grant-in-Aid for Special Project Research
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资助金额:$1.98万
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财政年份:1976
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
定常イオン温度プラズマ源の開発
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批准号:X00090----055304
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1975
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负责人:板谷 良平
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依托单位:
海外基金