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プロセス用プラズマのシース

过程等离子体鞘层

基本信息

批准号：
03302025
负责人：
板谷良平
金额：
$ 10.11万
依托单位：
Niihama National College of Technology (1993)Kyoto University (1991-1992)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Co-operative Research (A)
财政年份：
1991
资助国家：
日本
起止时间：
1991 至 1993
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究課題は半導体プロセスに不可欠の技術であるプラズマプロセシングに関して最も重要な働きをしているプラズマのシース,すなわち,プラズマと固体表面との間に存在するインターフェースについて組織的な研究を開始したものである。本年度は3か年計画の最終年度であり,2回の研究会を開き,研究成果のまとめを行った。本研究における成果の主なものは次の通りである。1.シースの構造について条件の異なるプラズマすなわち、RFプラズマ,電子ビームプラズマ,マグネトロンプラズマ,微粒子プラズマ、ならびに特性の異なる固体壁すなわち電子放出電極,導体壁、および絶縁体壁前面におけるシースやプリシースの構造,特性について知見を得た。2.シースのモデリングについて固体表面に構造を持つ場合を含むシースについての各種シミュレーション技法が開発され,その結果として,RFプラズマの場合にボーム条件が従来のものと異なること,微粒子を含む場合にはシースの構造が2段になること,壁が絶縁物の場合には,壁への熱流束はイオンによるものよりも電子によるものの方が遥かに大きくなること等が明らかになった。3.ラジカル、微粒子の生成と流束プラズマ中の各種ラジカルの振舞いに関する計測が進み、各種ラジカル,特にCH系ならびにCF系の電子衝突生成断面積、密度分布,シースを横切るラジカル束,固体表面に入射するイオンによるラジカル生成等が定量的に明らかにされた。シランプラズマ内の微粒子発生の時間的,空間的振舞が明らかになった。プラズマに関するパラメタ制御によるエッチング特性やCVDの膜特性の改善が得られ、プロセス用プラズマ改良の有効性が示された。

The purpose of this study is to ensure that the most important part of this study is that the most important part of the study is that there is a significant increase in the number of solid surfaces. The annual meeting of the three-year plan will be held this year, the 2-round seminar will be held, and the research results will be reviewed. The results of this study are mainly related to the results of this study. 1. The equipment is fabricated in terms of the temperature, the temperature, two。 The mechanical properties of the solid surface are analyzed by using the method of testing all kinds of mechanical properties of the solid surface. The results of the experiments show that the conditions of the RF are different, the particles contain the composite materials, the 2 segments of the composites are fabricated, and the wall layers of the materials are combined. In the wall, the current beam is used to make sure that the electricity is in the right place. 3. In the current beam, the microparticles are generated. In the current beam, all kinds of vibration and dance instruments are in progress, and the CF computers in the Ch system are used to generate cross-section, density distribution, cross-section and cross-section of the electron beam, the incident temperature on the solid surface is measured and so on. When the particles are born in time, the dance in the space is very clear. In order to improve the properties of the CVD membrane, it is necessary to improve the properties of the film.