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高振動励起状態にあるシラン系ラジカルの反応

硅烷自由基在高振动激发态下的反应

基本信息

批准号：
02214205
负责人：
梶本興亜
金额：
$ 1.15万
依托单位：
Kyoto University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
起止时间：
1990 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02214205/
关键词：
フェニルシラン光解離振動励起 SiH_2 振動緩和

项目摘要

プラズマ化学反応の活性物質として,電子励起あるいは振動励起した化学種は重要な位置を占めているが,その挙動についての実験デ-タの集積は遅れている。本研究では振動励起したシラン系ラジカルの挙動を調べることを目標としている。フェニルシランを193nmの光で光分解すると,超音速自由噴流中で次のような励起化学種が観測された。(1)電子励起種……Si( ^3P^0, ^1D^0),SiH(A,v′=0,1)(2)振動励起種……SiH_2( ^1A_1v″_2=0ー4)振動励起SiH_2は, ^1B_1(060)← ^6A_1(0v″0)の遷移を利用したレ-ザ-誘起けい光(LIF)励起スペクトルを観測することにより検出した。v″=4までの振動励起状態がはじめて検出されたが,スペクトルの解析から,100と020の間のフェルミ共鳴の存在が見出され,対称伸縮と変角振動との間の非調和項の大きさが実験的に求められた。SiH_2( ^1B_1(060))から ^1A_1(0v″0)への発光の強度分布を用いてフランク-コンドン因子の相対的大きさを評価し,これとLIF励起スペクトルの強度分布とから振動準位分布が求められた。生成直後のSiH_2は振動の反転分布が見られるが,約2μsで振動緩和していることが判明した。回転状態の緩和は,超音速自由噴流中で0.5μs以下で完了している。ついで,セル条件下(フェニルシラン1mmTorr,He100mTorr)において193nm光で光分解を行った。この場合,回転緩和は0.1μs以下で起こり室温の回転温度を示す。振動緩和は3ー5μs程度で完了することが解った。現在,CH_4,C_2H_4などと振動励起SiH_2との反応速度定数を測定中である。

The active substance of chemical reaction, electron excitation, vibration excitation, chemical species, important position, movement, accumulation, etc. This study aims to investigate the effects of vibration excitation on the system of vibration modulation. The 193-nm photolysis of the supersonic free jet is the second most exciting measurement of chemical species. (1)The electron excited species…Si( ^3P^0, ^1D^0),SiH(A,v′=0,1)(2) vibrationally excited species…SiH_2( ^1A_1v″_2=0 - 4) vibrationally excited species…SiH_2 (^1B_1(060)← ^6A_1(0v″0)). V″=4. The vibration excitation state is not detected, and the analysis of the vibration excitation state is not detected. The existence of the resonance between 100 and 020 is detected. The nonharmonic term between the vibration excitation state and the vibration excitation state is not detected. SiH_2( ^1B_1(060)) emission intensity distribution from ^1A_1(0v″0) is evaluated by the relative magnitude of the excitation factor. After the formation, the inverse vibration distribution of SiH_2 was found, and the vibration was relaxed about 2μs. The relaxation of the return state is complete in supersonic free jets below 0.5μs. Under the condition of 193nm light, the photolysis of He is performed under the condition of 100mTorr. In this case, the return temperature is less than 0.1μs, and the room temperature and return temperature are indicated. Vibration mitigation is completed in 3 - 5μs. At present, CH_4 and C_2H_4 are excited by vibration and SiH_2 is excited by vibration.