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高振動励起状態にあるシラン系ラジカルの反応

高振動励起状態にあるシラン系ラジカルの反応
硅烷自由基在高振动激发态下的反应
批准号:
02214205
负责人:
梶本 興亜
金额:
$1.15万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
1990
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1990 至 --

项目摘要

项目成果

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プラズマ化学反応の活性物質として,電子励起あるいは振動励起した化学種は重要な位置を占めているが,その挙動についての実験デ-タの集積は遅れている。本研究では振動励起したシラン系ラジカルの挙動を調べることを目標としている。フェニルシランを193nmの光で光分解すると,超音速自由噴流中で次のような励起化学種が観測された。(1)電子励起種……Si( ^3P^0, ^1D^0),SiH(A,v′=0,1)(2)振動励起種……SiH_2( ^1A_1v″_2=0ー4)振動励起SiH_2は, ^1B_1(060)← ^6A_1(0v″0)の遷移を利用したレ-ザ-誘起けい光(LIF)励起スペクトルを観測することにより検出した。v″=4までの振動励起状態がはじめて検出されたが,スペクトルの解析から,100と020の間のフェルミ共鳴の存在が見出され,対称伸縮と変角振動との間の非調和項の大きさが実験的に求められた。SiH_2( ^1B_1(060))から ^1A_1(0v″0)への発光の強度分布を用いてフランク-コンドン因子の相対的大きさを評価し,これとLIF励起スペクトルの強度分布とから振動準位分布が求められた。生成直後のSiH_2は振動の反転分布が見られるが,約2μsで振動緩和していることが判明した。回転状態の緩和は,超音速自由噴流中で0.5μs以下で完了している。ついで,セル条件下(フェニルシラン1mmTorr,He100mTorr)において193nm光で光分解を行った。この場合,回転緩和は0.1μs以下で起こり室温の回転温度を示す。振動緩和は3ー5μs程度で完了することが解った。現在,CH_4,C_2H_4などと振動励起SiH_2との反応速度定数を測定中である。
期刊论文(6)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
K.Honma O.Kajimoto: "Crossedーbeam study of the reaction of van der Waals molecule H+(NO)_2" J.Chem.Phys.92. 1657-1660 (1990)
K.Honma O.Kajimoto:“范德华分子 H+(NO)_2 反应的交叉光束研究”J.Chem.Phys.92 1657-1660 (1990)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
H.Ishikawa O.Kajimoto: "Formation and Decay of vibrationally excited SiH_2 in the 193 nm photolysis of phenylsilane" Chem.Phys.Lett.
H.Ishikawa O.Kajimoto:“苯基硅烷 193 nm 光解中振动激发 SiH_2 的形成和衰变”Chem.Phys.Lett。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
H.Ishikawa O.Kajimoto: "Fermiーresonance observed in the ^1B_1(060)<ー ^1A_1(0v″0) transition of SiH_2 radical" J.Mol.Spectrosc.
H.Ishikawa O.Kajimoto:“在 SiH_2 自由基的 ^1B_1(060)<ー ^1A_1(0v″0) 跃迁中观察到费米共振”J.Mol.Spectrosc。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
光化学過程に対する動的溶媒効果の高圧法による研究
  • 批准号:
    99F00087
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $0.58万
  • 财政年份:
    2000
  • 负责人:
    梶本 興亜
  • 依托单位:
液相におけるクラスター構造
  • 批准号:
    07240102
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额:
    $60.8万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    梶本 興亜
  • 依托单位:
溶媒分子の付着数を規定した化学反応-分子レベルでの溶媒効果-
  • 批准号:
    61540314
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 资助金额:
    $1.28万
  • 财政年份:
    1986
  • 负责人:
    梶本 興亜
  • 依托单位:
衝突状態にある分子対から開始する光化学反応
  • 批准号:
    61223007
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Special Project Research
  • 资助金额:
    $0.96万
  • 财政年份:
    1986
  • 负责人:
    梶本 興亜
  • 依托单位:
海外基金