课题基金 / 基金详情

パターン縮小可能な新しいX線露光法に関する基礎研究

パターン縮小可能な新しいX線露光法に関する基礎研究
可减少图案的新型 X 射线曝光方法的基础研究
批准号:
59550264
负责人:
松村 英樹
金额:
$1.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份:
1984
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1984 至 --
关键词:

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项目成果

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代数曲線の有理点問題の有理矩形求積公式及び有理三角形への応用
  • 批准号:
    24KJ0183
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $2.41万
  • 财政年份:
    2024
  • 负责人:
    松村 英樹
  • 依托单位:
触媒化学気相成長法によるシリコン系薄膜の成長プロセス
常圧触媒CVD(Cat-CVD)法
酸化銅を用いた高移動度薄膜トランジスタの低温形成