触媒的不斉シリル化反応

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光学活性なホスフィン配位子を含む遷移金属錯体触媒を用いる不斉合成は、これまでに知られている光学活性化合物の合成法の中で最も効率の良いものの一つである。本研究では、有機ケイ素化合物の反応を新しい不斉触媒を用いて行い、光学活性な有機ケイ素化合物を不斉合成した。1.種々の遷移金属錯体触媒を用いて1,3-ジエンとヒドロシランの反応を検討し、パラジウム触媒存在下、トリクロロシランおよびメチルジクロロシランが、1-フェニルブタジエンや1-ビニルシクロヘキセンに共役付加し、アリルシラン型の生成物が高収率で得られることを見い出した。特にパラジウム錯体触媒の配位子としては単座配位子であるトリフェニルホスフィンがすぐれていた。2.上記ヒドロシリル化反応を不斉反応とするために用いる不斉配位子として新しい光学活性ホスフィンを合成した。フェロセニルモノホスフィン骨格をもち、またフェロセン側鎖上にペルブルオロアルキル基をもつもので、触媒の溶触性や立体制御機構などを考慮に入れてデザインしたものである。3.上記光学活性フェロセニルホスフィンを配位子とするパラジウム錯体触媒を用いてシクロペンタジエンや1-ビニルシクロアルケン類の不斉ヒドロシリル化を行った。反応は温和な条件下で進行し、60%eeの光学純度をもつアリルシラン類が高い収率で得られた。アリルシランは光学活性なアリルアルコ-ル等に誘導された。