二元系アモルファス半導体薄膜作製のためのラジカルビームCVD装置の開発

开发用于制造二元非晶半导体薄膜的自由基束CVD设备

• 批准号: 05750289
• 负责人: 田畑 彰守
• 金额: $ 0.58万
• 依托单位: Nagoya University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
• 财政年份: 1993
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 1993 至 无数据
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-05750289/
• 关键词: アモルファス炭化シリコン; プラズマCVD法; キャピラリプレート; ラジカルビーム; 光電導度

光学バンドギャップが大きく光電導率の高いアモルファス炭化シリコン薄膜の作製法として、メタンとシランガスを別々のプラズマ室に導入して分解する分離励起型プラズマCVD法を提案し、その有用性について研究を行ってきた。本研究ではさらに発展させた方法として、プラズマ室先端にキャピラリーを設置することによりラジカルを膜成長表面上へ選択的にかつ方向性を揃えて導入することができるラジカルビームCVD法を考案した。この方法は、分離励起型プラズマCVD法に比べ膜堆積速度が1桁以上速い。また従来のプラズマCVD法により作製された膜に比べ、光学バンドギャップが2.9eVと大きい膜が得られた。光学バンドギャップが2.5eVから2.9eVの膜の光電導率は、従来法による膜の値より2桁程度大きい。しかし、光電導度の暗電導度に対する比(感度)は数十程度と小さい。これは、暗電導率が従来法の値に比べて3桁程度大きくなっているためである。この原因は、膜中の水素含有量が多く、多くのボイドが存在するためと考えられ、水素含有量を低減する方法を併用する必要がある。キャピラリを用いることによりプラズマ室と堆積室との間に圧力差を設けたが、その圧力差は十分ではなく、メタン側プラズマ室にシランガスが堆積室より逆流し完全な分離ができていない。またキャピラリアの穴の大きさによっては、アモルファスの膜が堆積するのではなく、微粒子が堆積する場合がある。そのため、膜作製に適したキャピラリの穴の大きさおよび穴の数(開孔率)の最適値を求める必要がある。また、本研究において計画していたラジカルの測定も併せて行っていかなければならない。

In the field of optical engineering, the rate of photoelectricity is very high. The carbonized thin film is used to prepare the thin film. In the laboratory, the decomposition device is activated. The CVD method is proposed, and the usefulness test is performed. In this study, the direction of the growth of membranes selected on the surface of the growth of membranes is entered into the examination of the CVD method. The speed of the membrane reactor is faster than that of the membrane reactor by the method and the split-excitation CVD method. In order to improve the quality of the film, the CVD method is used to compare the film, the optical system and the 2.9eV film. The optical system, 2.5eV and 2.9eV film photovoltaic rate, and the film temperature is very high. The intensity of light and light is much lower than that of dozens of degrees of light. The rate of dark electricity and dark electricity is higher than that of the third truss. The reason, the amount of water in the film, the content of water, the content of water It is necessary to use the counter current of the reactor to separate the pressure difference of the room, the difference of the force, the temperature of the reactor, the countercurrent of the reactor, the setting of the force difference, the difference of force and the countercurrent of the reactor. In the first place, there is a great deal of damage to the acupoint, the membrane is stacked, and the particles are stacked together. The number of holes (opening ratio) is the most important to determine the necessary parameters. The purpose of this study is to determine the accuracy of the measurement system in this study.