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ホウ素添加したGaN系紫外微小共振器の製作

ホウ素添加したGaN系紫外微小共振器の製作
硼掺杂GaN紫外微谐振器的制作
批准号:
13750018
负责人:
本田 徹
金额:
$1.41万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 2002

项目摘要

项目成果

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ホウ素添加したGaNおよびその混晶系材料は6H-SiC基板上に格子整合をとることが可能であると予測されており,微小共振器製作上,発光層中の残留歪み低減に効果があると報告した.本年度は,BAlGaN系微小共振器の検討を行った.従来の半導体反射鏡構造を利用した微小共振器の研究開発は有機金属気相成長法によるホウ素を含む窒化物材料の結晶成長技術の研究と平行し,ガラス基板上に微小共振器形成する技術検討も行った.この点について大きな進展があったので報告する.共振器反射鏡形成には大きな屈折率差があり,かつ紫外光に対して透明である材料系が要求される.これまでに酸化物であるSiO_2,TiO_2もしくはZrO_2が用いられてきた.これらの多層膜反射鏡は少ない層数で高い反射率の実現が可能である.しかしながらこれら,誘電体薄膜上にエピタキシャル成長は困難である.そこで,ガラス基板上にGaN薄膜材料を結晶構造にこだわらず形成し,発光素子の形成を通して微小共振器形成の可能性を検討した.Cr金属電極を形成したSiO_2上に非晶質GaNを堆積させ,エレクトロルミネッセンス素子(ELDs)を製作し,300μm程度の上部電極を形成している.交流駆動により青紫の発光が目視された.また,スペクトルは紫外発光成分を有しガラス基板上にGaN系材料を堆積する手法も有効であることが確認された.この方法をBAlN高抵抗層を6H-SiCに格子整合して形成し,上部に誘電体薄膜を利用すれば,より高効率の発光デバイス形成が可能であるとの感触を得た.本研究結果より,交流駆動型新規微小共振器構造のアイデアとともにその基礎検討結果を示すことができた.この結果は,将来大面積微小共振器アレイ構造へ発展する可能性を示している.
期刊论文(5)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
T.Honda, K.Sato, T.Hashimoto, M.Shinohara, H.Kawanishi: "GaNGrowth by Compound Source MBE Using GaN Powder"Phisica status Solidi (a). 188. 587-590 (2001)
T.Honda、K.Sato、T.Hashimoto、M.Shinohara、H.Kawanishi:“使用 GaN 粉末通过化合物源 MBE 进行 GaN 生长”Phisica 状态 Solidi (a)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T.Honda, H.Kawanishi: "Application of Amorphous GaN for Electroluminescence Device"Mat.Res.Symp.Proc.. 693. I6.42.1-I6.42.4 (2002)
T.Honda、H.Kawanishi:“非晶 GaN 在电致发光器件中的应用”Mat.Res.Symp.Proc.. 693. I6.42.1-I6.42.4 (2002)
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T.Honda, K.Sato, T.Hashimoto, M.Shinohara, H.Kawanishi: "GaN Growth by Compound Source Molecular Beam Epitaxy"Journal of Crystal Growth. 273-239. 1008-1011 (2002)
T.Honda、K.Sato、T.Hashimoto、M.Shinohara、H.Kawanishi:“复合源分子束外延生长 GaN”晶体生长杂志。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
T.Honda, Y.Inao, K.Mineo, S.Kumabe, H.Kawanishi: "Deposition of Amorphous GaN by Compound Source Molecular Beam Epitaxy for Electroluminescent Devices"Physica Status Solidi.(a). 192. 461-465 (2002)
T.Honda、Y.Inao、K.Mineo、S.Kumabe、H.Kawanishi:“通过复合源分子束外延沉积非晶 GaN 用于电致发光器件”Physica Status Solidi。(a)。
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
ホウ素を含むGaN系紫外半導体レーザ構造の製作
  • 批准号:
    11750020
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $1.41万
  • 财政年份:
    1999
  • 负责人:
    本田 徹
  • 依托单位:
導電性基板上への選択成長によるGaN系青色面発光レーザ構造の製作
  • 批准号:
    09750012
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $1.34万
  • 财政年份:
    1997
  • 负责人:
    本田 徹
  • 依托单位:
微小バッファ層を用いる選択有機金属気相成長法によるGaN系面発光レーザ
  • 批准号:
    08750053
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.7万
  • 财政年份:
    1996
  • 负责人:
    本田 徹
  • 依托单位:
GaN系面発光レーザの基礎設計と有機金属気相成長法による試作
  • 批准号:
    07750051
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
  • 资助金额:
    $0.64万
  • 财政年份:
    1995
  • 负责人:
    本田 徹
  • 依托单位:
国内基金
海外基金
垂直型GaN肖特基势垒二极管研究
  • 批准号:
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    --
  • 批准年份:
    2026
  • 负责人:
    刘梦涵
  • 依托单位:
异质结极化场局域调控机制与选区外延p-GaN HEMT研究
基于金刚石高效散热封装的高功率高压GaN器件研发与产业化
复合抗磨涂层仿生微结构化表面自润滑 金刚石砂轮的制备与其磨削单晶GaN基础 研究
  • 批准号:
  • 项目类别:
    省市级项目
  • 资助金额:
    10.0万元
  • 批准年份:
    2025
  • 负责人:
    戴厚富
  • 依托单位: