CONTROL OF CARBON NANOTUBE GROWTH USING SELF-ORGANIZED CATALYST NANOCLUSTERS AND ITS APPLICATION TO NANODEVICES

自组织催化剂纳米团簇控制碳纳米管生长及其在纳米器件中的应用

基本信息

  • 批准号:
    14205010
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 35.19万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2002
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2002 至 2003
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Electrical conductance of carbon nanotubes (CNTs) was measured by a newly developed probe system. The CNTs were bridged between the electrodes by using thermal CVD with self-organized catalyst nanoclusters or dispersing commercial CNTs on the patterned electrodes. Furthermore, Ti electrodes were deposited over both ends of the CNT bridges in order to reduce the contact resistance between CNTs and electrodes. A test device of field effect transistor (FET) with a channel of CNTs was fabricated.After annealing the CNTs bridging between the electrodes in a vacuum, the contact resistance was reduced, indicating the Ti carbide could form at the interface of the electrodes. Furthermore, Ti electrodes were deposited over both ends of the CNTs using photolithography and lift-off technique, resulting in reduction of the contact resistance. The conductance was found to be proportional to A/L as well as B/L, where A, B, and L is the cross section, circumference, and length of CNTs. This means that diffusive transport occurs in our CNTs.We have fabricated an FET test device using CNTs. The drain current was measured with changing gate voltages. The drain current was modulated by the gate voltages. The value of transconductance per unit channel width of the FET test devices was found to be comparable to that of conventional p-type MOSFET. The performance of the FET test devices could be improved by changing the channel length or the structure of the electrodes.
通过新开发的探针系统测量碳纳米管(CNT)的电导率。通过使用自组织催化剂纳米团簇的热CVD或将商业碳纳米管分散在图案化电极上,碳纳米管在电极之间桥接。此外,在碳纳米管桥的两端沉积钛电极,以减少碳纳米管和电极之间的接触电阻。制作了具有碳纳米管沟道的场效应晶体管(FET)测试装置。桥接在电极之间的碳纳米管在真空中退火后,接触电阻降低,表明电极界面处形成了Ti碳化物。此外,使用光刻和剥离技术在碳纳米管的两端沉积钛电极,从而降低了接触电阻。发现电导与 A/L 和 B/L 成正比,其中 A、B 和 L 是碳纳米管的横截面、周长和长度。这意味着我们的 CNT 中会发生扩散传输。我们已经使用 CNT 制造了 FET 测试装置。漏极电流是通过改变栅极电压来测量的。漏极电流由栅极电压调制。 FET 测试器件每单位沟道宽度的跨导值与传统 p 型 MOSFET 相当。 FET 测试装置的性能可以通过改变沟道长度或电极结构来提高。

项目成果

期刊论文数量(26)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Kenjiro Oura 他10名: "Doping of Magic Nanoclusters in the Submonolayer In/Si(100) System"Phys.Rev.Lett.. 91. 026104-1-026104-4 (2003)
Kenjiro Oura 等 10 人:“亚单层 In/Si(100) 系统中神奇纳米团簇的掺杂”Phys.Rev.Lett.. 91. 026104-1-026104-4 (2003)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Oura 他5名: "Ni-based Catalytic Growth of Vertically Aligned Multi-Walled Carbon Nanotubes by Dual-RF Plasma CVD Method and their Field Emission Properties"Physica B. 323. 299-302 (2002)
K. Oura 等 5 人:“通过双 RF 等离子体 CVD 方法垂直排列多壁碳纳米管的 Ni 基催化生长及其场发射性能”Physica B. 323. 299-302 (2002)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
尾浦憲治郎 他7名: "プラズマ化学気相成長法による電界電子エミッター用ナノ構造薄膜の作製と評価"真空. 46. 302-305 (2003)
Kenjiro Onura 等 7 人:“通过等离子体化学气相沉积制备和评估场电子发射器的纳米结构薄膜”真空。 46. 302-305 (2003)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
S.Honda, M.Katayama, K.-Y.Lee, T.Ikuno, S.Ohkura, K.Oura, H.Furuta, T.Hirao: "Low Temperature Synthesis of Aligned Carbon Nanotubes by Inductively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition Using Pure Methane"Jpn. J. Appl. Phys.. 42. L441-L443 (2003)
S.Honda、M.Katayama、K.-Y.Lee、T.Ikuno、S.Ohkura、K.Oura、H.Furuta、T.Hirao:“通过感应耦合等离子体化学气相沉积法低温合成定向碳纳米管
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
片山光浩 他8名: "触媒金属微粒子制御による垂直配向カーボンナノチューブ薄膜の作製"真空. Vol.46, No.7. 4-7 (2003)
Mitsuhiro Katayama 等 8:“通过控制催化金属细颗粒制备垂直排列碳纳米管薄膜”,真空,第 46 卷,第 7 期。
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Synthesis of Carbon Nanotubes with Long Length and High Density and its Application to Nanodevices
长高密度碳纳米管的合成及其在纳米器件中的应用
  • 批准号:
    16206004
  • 财政年份:
    2004
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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  • 批准号:
    13355003
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 35.19万
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    11305006
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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表面氢的显微分析及其在纳米加工技术中的应用
  • 批准号:
    10355002
  • 财政年份:
    1998
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A).
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  • 批准号:
    09450017
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Joint Study on Hydrogen-Mediated Epitaxy
氢介导外延联合研究
  • 批准号:
    08044146
  • 财政年份:
    1996
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for international Scientific Research
Developement of new hydrogen analysis method by combining classical methods and its application to the H/Si systems
结合经典方法开发新的氢分析方法及其在H/Si体系中的应用
  • 批准号:
    08555009
  • 财政年份:
    1996
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Ecology and Dynamics of Hydrogen at Semiconductor Surface
半导体表面氢的生态学和动力学
  • 批准号:
    07305049
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Physics of Hetero-Epitaxial Growth onto the hydrogen terminated Si surface under the low temperature condition
低温条件下氢封端硅表面异质外延生长物理
  • 批准号:
    06402025
  • 财政年份:
    1994
  • 资助金额:
    $ 35.19万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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